Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes

• Veröffentlicht in: Вопросы атомной науки и техники
• Datum: 2019
• Hauptverfasser: Kovtun, Yu.V., Kuprin, A.S., Lunev, V.M.
• Format: Artikel
• Sprache: Englisch
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
• Schlagworte: Low temperature plasma and plasma technologies
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194705
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes / Yu.V. Kovtun, A.S. Kuprin, V.M. Lunev // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 145-148. — Бібліогр.: 25 назв. — англ.

The work deals with the influence of argon pressure on the ion current of vacuum-arc discharge in the “Bulat-6” setup with Cr-Cu-Zr-cathodes, and also, on the rate of coating deposition on the surfaces being perpendicular and parallel to the plasma stream. It is shown that a substantial decrease in both the ion current density and the rate of coating deposition takes place at Ar pressure above 1 Pa. Consideration is given to the elementary processes occurring during plasma stream-gas target interaction. Досліджено впливи тиску аргону на іонний струм вакуумно-дугового розряду в установці «Булат-6» з Cr-, Cu-, Zr-катодами, а також на швидкість осадження покриттів на поверхні перпендикулярні і паралельні плазмовому потоку. Показано, що істотні зменшення густини іонного струму і швидкості осадження покриттів відбуваються при тиску Ar вище 1 Pa. Розглянуто елементарні процеси, що відбуваються при взаємодії плазмового потоку з газовою мішенню. Исследованы влияния давления аргона на ионный ток вакуумно-дугового разряда в установке «Булат-6» с Cr-, Cu-, Zr-катодами, а также на скорость осаждения покрытий на поверхности, перпендикулярные и параллельные плазменному потоку. Показано, что существенные уменьшения плотности ионного тока и скорости осаждения покрытий происходят при давлении Ar выше 1 Pa. Рассмотрены элементарные процессы, происходящие при взаимодействии плазменного потока с газовой мишенью.