Основы химической очистки детонационной алмазосодержащей шихты азотной кислотой
Приведены основные закономерности химической очистки алмазосодержащей шихты детонационного синтеза разбавленной азотной кислотой под давлением. Установлено, что оптимальная температура процесса составляет 230—240 °C, избыток HNO3 — 200—300 ‰ от стехиометрии, давление — 7—8 МПа....
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Сверхтвердые материалы |
|---|---|
| Datum: | 2008 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
2008
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/20740 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Основы химической очистки детонационной алмазосодержащей шихты азотной кислотой / В.Г. Сущев, В.Ю. Долматов, В.А. Марчуков, М.В. Веретенникова // Сверхтвердые материалы. — 2008. — № 5. — С. 16-25. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |