Fomin, A., Pashchenko, G., Kravetskyi, M., & Lutsyshyn, I. (2017). Model of smoothing roughness on GaAs wafer surface by using nonabrasive chemical-and-mechanical polishing. Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Fomin, A.V, G.A Pashchenko, M.Yu Kravetskyi, та I.G Lutsyshyn. "Model of Smoothing Roughness on GaAs Wafer Surface by Using Nonabrasive Chemical-and-mechanical Polishing." Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics 2017.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Fomin, A.V, et al. "Model of Smoothing Roughness on GaAs Wafer Surface by Using Nonabrasive Chemical-and-mechanical Polishing." Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2017.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.