Зображення обкладинки

Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering

Cu₅.₅P₁.₂Se₅.₀I₁.₃ thin film was deposited onto silicate glass substrate by non-reactive radio frequency magnetron sputtering. Structural studies were carried out using X-ray diffraction and SEM techniques. Spectrometric studies of transmission spectra of Cu₅.₅P₁.₂Se₅.₀I₁.₃ thin film in the temperat...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Дата:	2017
Автори:	Studenyak, I.P., Kutsyk, M.M., Bendak, A.V., Izai, V.Yu., Bilanchuk, V.V., Kúš, P., Mikula, M.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2017
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/214911
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering / I.P. Studenyak, M.M. Kutsyk, A.V. Bendak, V.Yu. Izai, V.V. Bilanchuk, P. Kúš, M. Mikula // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2017. — Т. 20, № 1. — С. 64-68. — Бібліогр.: 16 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)

Influence of X-ray irradiation on the optical absorption edge and refractive index dispersion in Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)

Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)

Influence of X-ray irradiation on the optical absorption edge and refractive index dispersion in Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)

Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)

Structural, electrical and optical investigations of Cu₆PS₅Br-based thin film deposited by HiTUS technique
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)

Optical studies of as-deposited and annealed Cu₇GeS₅I thin films
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)

Structural, electrical and optical investigations of Cu6PS5 Br-based thin film deposited by HiTUS technique
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)

Optical studies of as-deposited and annealed Cu7GeS5I thin films
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Temperature studies of optical absorption in the sandwich structure based on (Ag₃AsS₃)₀.₆(As₂S₃)₀.₄ thin film and gold nanoparticles
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2018)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Deposition and optical absorption studies of Cu–As–S thin films
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2018)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
за авторством: Khrypunov, G.S., та інші
Опубліковано: (2017)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)

Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Effect of sputtering power on optical properties of nickel oxide electrochromic thin films
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)

Effect of sputtering power on optical properties of nickel oxide electrochromic thin films
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)

Compositional studies of optical parameters in (Ag₃AsS₃)x(As₂S₃)₁₋x (x = 0.3; 0.6; 0.9) thin films
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)

The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
за авторством: G. S. Khrypunov, та інші
Опубліковано: (2017)

Deposition and optical absorption studies of Cu–As–S thin films
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2018)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Characterisation of Mo–V–N Coatings Deposited on XC100 Substrate by Sputtering Cathodic Magnetron
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)

Structural and optical studies of (Ag₃AsS₃)₀.₆(As₂S₃)₀.₄ thin films deposited at different technological conditions
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2014)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)