Зображення обкладинки

Influence of X-ray irradiation on the optical absorption edge and refractive index dispersion in Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering

Cu₆PS₅I-based thin films were deposited using non-reactive radio-frequency magnetron sputtering. Structural studies of thin films were performed by scanning electron microscopy, and their chemical composition was determined using energy-dispersive X-ray spectroscopy. As-deposited thin films were irr...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Дата:2017
Автори: Studenyak, I.P., Kutsyk, M.M., Bendak, A.V., Izai, V.Yu., Kus, P., Mikula, M.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2017
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/214924
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Influence of X-ray irradiation on the optical absorption edge and refractive index dispersion in Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering / I.P. Studenyak, M.M. Kutsyk, A.V. Bendak, V. Yu. Izai, P. Kus, M. Mikula // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2017. — Т. 20, № 2. — С. 246-249. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Схожі ресурси