Characterization of nano-bio silicon carbide

Plasma-enhanced chemical vapor deposition, reactive magnetron sputtering, hotwire chemical vapor deposition, and radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition were used to develop technology for the preparation of nano-bio silicon carbide coating of ceramic materials for dental applicati...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Дата:2020
Автори: Vlaskina, S.I., Mishinova, G.N., Shaginyan, I.L., Smertenko, P.S., Svechnikov, G.S.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2020
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/215918
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Characterization of nano-bio silicon carbide / S.I. Vlaskina, G.N. Mishinova, I.L. Shaginyan, P.S. Smertenko, G.S. Svechnikov // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2020. — Т. 23, № 4. — С. 346-354. — Бібліогр.: 29 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine