Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії
Представлено результати аналізу властивостей фоточутливих матеріалів з нелінійною експозиційною характеристикою. Показано, що існує низка фото(термо)чутливих матеріалів, що дозволяють реєструвати зображення, розміри елементів яких менте діаметра експонуючого променя. Представлено результати лазерног...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Реєстрація, зберігання і обробка даних |
|---|---|
| Datum: | 2012 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
2012
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/50580 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії / А.А. Крючин, В.М. Рубіш, С.О. Костюкевич, В.І. Мінько, П.Є. Шепелявий, В.О. Лисюк, К.В. Костюкевич, М.А. Сурмач // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2012. — Т. 14, № 3. — С. 3-11. — Бібліогр.: 21 назв. — укр. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1860261021162143744 |
|---|---|
| author | Крючин, А.А. Рубіш, В.М. Костюкевич, С.О. Мінько, В.І. Шепелявий, П.Є. Лисюк, В.О. Костюкевич, К.В. Сурмач, М.А. |
| author_facet | Крючин, А.А. Рубіш, В.М. Костюкевич, С.О. Мінько, В.І. Шепелявий, П.Є. Лисюк, В.О. Костюкевич, К.В. Сурмач, М.А. |
| citation_txt | Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії / А.А. Крючин, В.М. Рубіш, С.О. Костюкевич, В.І. Мінько, П.Є. Шепелявий, В.О. Лисюк, К.В. Костюкевич, М.А. Сурмач // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2012. — Т. 14, № 3. — С. 3-11. — Бібліогр.: 21 назв. — укр. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Реєстрація, зберігання і обробка даних |
| description | Представлено результати аналізу властивостей фоточутливих матеріалів з нелінійною експозиційною характеристикою. Показано, що існує низка фото(термо)чутливих матеріалів, що дозволяють реєструвати зображення, розміри елементів яких менте діаметра експонуючого променя. Представлено результати лазерного запису на неорганічних фоторезистах.
The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of laser writing to inorganic photoresists are presented.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:55:17Z |
| format | Article |
| fulltext |
,
ISSN 1560-9189 , , 2012, . 14, 3 3
004.85
. . 1, . . 1, . . 2, . . 2,
. . 2, . . 2, . . 2, . . 3
1
. . , 2, 03113 ,
e-mail: kryuchin@ipri.kiev.ua, . 38 (044)-454-2152
2 . . .
, 41, 03028 ,
e-mail: sekret@spie.org.ua, . 38 (044)-525-6205
3 « »
, 37, 03056 ,
-
. ,
( ) , -
, -
. -
.
: , ,
.
,
,
, , -
[1, 2].
( ).
-
,
’ -
[3–5]. WORM -
, -
.
© . . , . . , . . , . . ,
. . , . . , . . , . .
mailto:kryuchin@ipri.kiev.ua
mailto:sekret@spie.org.ua
. . , . . , . . , . . ,
. . , . . , . . , . .
4
WORM
-
[2]. -
- -
, -
, .
CD DVD. BD -
,
,
. -
580 ( 405 ,
’ 0,85) 150 . -
,
, -
- , BD [5–9].
, , -
[10, 11].
, -
- ’ ,
-
. -
« – », -
- BD [9]. -
-
.
( , ) -
, 25–30 %
. -
-
[11]. -
, , -
. -
, , -
, [11]. -
-
40 [7]. 25 [7,
11]. ,
. -
257 ’ 0,90 -
40 . -
. -
ISSN 1560-9189 , , 2012, . 14, 3 5
-
( ,
).
- , -
.
-
. -
[12, 13], -
, -
. -
, , ,
. , -
-
, ’ [12, 14, 15].
,
[12, 14].
, , -
[12, 14]. -
, ,
[14–16].
-
-
, R,
, R :
r
o
a
o
o H
H
T
T
R
R ln2 ,
1220 — ,
; — , -
; Hr — R
; — .
Hr/H = 0,8 ~0,1Ro.
,
,
. -
.
. . , . . , . . , . . ,
. . , . . , . . , . .
6
, -
100 0,1 ÷ 1,0 /
0,4 , 10–30 .
, 25 % K3Fe(CN)6
25 % NaOH [12].
, -
, ’ . -
.
50 .
0,8
~0,5 [14].
, ,
,
.
,
, 3–5
. -
: [2, 17], -
[8, 10] [18].
- BD
ZnS–SiO2.
BD 130
150 .
405 , ’ 0,85 -
580 [8].
ZnS–SiO2 -
ZnS, SiO2. ZnS -
: -
ZnS - . -
-
600–900 º . ZnS SiO2
. 1.
, ZnS 2
7,5 700 º 50 800 º .
ZnS–SiO2
. -
, ,
0,5… 3,5 .
ISSN 1560-9189 , , 2012, . 14, 3 7
0 100 500 600 700 800
0
5
10
45
50
55
ZnS/SiO2=15%
,
,
. 1. ZnS SiO2 [10]
,
( ).
ZnS–SiO2 . 2.
3
2
1
3
2
1
ZnS
SiO 2
ZnS
SiO 2
. 2. ZnS–SiO2 [10]
(1 — ; 2 — ;
3 — )
ZnS 80
60 .
-
(HNO3, HCl, H2SO4) (KOH, NaOH) [8,
10]. , 87 -
Ni 10 1 % -
HNO3 15 [10].
. . , . . , . . , . . ,
. . , . . , . . , . .
8
-
, 5–6 -
[10, 12].
-
, , .
Mol–xOx, Wl–xOx, 0,1 0,75. , -
0,4 … 0,7. -
.
[18]. -
. , (
), -
BD ( 4,92 / , -
6 ) [18].
-
( ) , -
0,1 , -
. -
.
-
, -
. , -
, ,
. -
-
[17, 19], -
« » [6]. -
. -
, -
1/10 [6]. -
,
[6]. -
.
- -
,
. -
, -
- , -
. , -
.
[3, 4].
-
, .
ISSN 1560-9189 , , 2012, . 14, 3 9
-
.
0,3–0,8 [2, 17, 19],
- -
[2].
-
[17, 20, 21]. -
-
[21]. -
-
-
.
-
405 ( ’ -
0,85) , - -
0,1
0,3 .
-
.
- -
. 3.
. 3.
, -
,
. . , . . , . . , . . ,
. . , . . , . . , . .
10
. -
.
, , 30 %
.
1. -
, -
,
.
2. -
.
. . . -
, -
, .
1. . . -
/ . . , . . // -
. — 1997. — . 4, 1. — . 188–190.
2. . . : / . . , . . ,
. . , . . / . . , - , -
. — .: , 2007. — 195 .
3. . .
/ . . , . . //
. — 1974. — . 1, 12. — . 2618–2620.
4. . . Ag–As2S3 -
/ . . , . . // .
. . — 1981. — . 26, . 9. — . 1561–1563.
5. . . -
/ . . , . . // , .
. — 2010. — . 12, 1. — . 3–11.
6. Macroscopic Study on Etching Characteristics of Phase — Change Recording Films / Anrni Y.,
Shintani T., Ninemura H. [et al.] // Proc. E*PCOS 04. — P. 1–6.
7. Resin Material Dependence of Pit Shape in Thermal Direct Mastering / Toshihiko Sakai,
M. Shimo, Nobuyuki Takamori [et al.] // Jpn. J. Appl. Phys. — 2007. — Vol. 46. — . 3942–3944.
8. Thermal Direct Mastering Using Deep UV Laser. Part. 1 / Sakai Toshihiko, Nakano Ikuo,
Shimo Masanor [et al.] // Jpn. Appl. Phys. — 2006. — Vol. 45, N 2B. — P. 1407–1409.
9. Wilkinson R.L. DVD Mastering Using Dye Polymer Media / R.L. Wilkinson // Optical Data
Storage Topical Meeting, 1997. — ODS. Conference Digest. — 1997, 7–9 Apr. — P. 90–91.
ISSN 1560-9189 , , 2012, . 14, 3 11
10. . 2008/015 2936 1, E.R. Meinders, H. Sijvert, P. Bouwmans, P.G. Jacobus, M.
Peeters. Methods for Mastering and Mastering Substrate. — Jun. 26, 2008.
11. 405 nm Laser Thermal Lithography of 40 nm Pattern Using Super Resolution Organic Resist
Material / Yoshihisa Usami, Tetsuya Watanabe, Yoshinora Kanazawa [et al.] // Applied Physics Express.
— 2009. — Vol. 2. — P. 126502/1–126502/3.
12.
/ . . , . . , . . [ .] // -
. — 2011. — . 41, 7. — . 631–637.
13. . . - -
/ . . . — : , 2007. — . 423.
14. . .
/
. . , . . , . . // . — 2010. — . 34, 1. —
. 101–107.
15. . .
/
. . // - - -
, . — 2010. — 5(69). — . 17–21.
16. /
. . , . . , . . [ .] // . . . — 2011. — . 54,
1. — C. 89–94.
17. Laser Lithography in the Layers As2S3 / Indutniy I.Z., Kostyukevich S.A., Minko V.I. // Op-
toelectron and Semiconductor Engin. — 1993. — N 25. — . 52–59.
18. . 2011/0274895 1.USA. 32 3/10. Method for Manufacturing Optical Disc Mas-
ter and Method for Manufacturing Optical Disc / A. Kouchiyama (JP), K. Azatani (JP). — Sony Corp.
Pub. — Data 10.11.2011.
19. . . As40S40Se20 /
. . , . . , . . // , . . — 1999.
— . 1, 2. — . 19–24.
20. Mamedov S. Calculation of Etching Profile in the Photolithographic Process on As2S3 thin
Films / S. Mamedov // J. Vac. Sci. Technol. B. — 1996. — Vol. 14, N 3. — P. 1864–1866.
21. . 34995 . 7 03 15/00. -
As2S3 / . . , . . ,
. . [ .]; . 27.07.99; . 15.09.03. — . 9.
18.07.2012
|
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-50580 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1560-9189 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-12-07T18:55:17Z |
| publishDate | 2012 |
| publisher | Інститут проблем реєстрації інформації НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Крючин, А.А. Рубіш, В.М. Костюкевич, С.О. Мінько, В.І. Шепелявий, П.Є. Лисюк, В.О. Костюкевич, К.В. Сурмач, М.А. 2013-10-23T23:51:29Z 2013-10-23T23:51:29Z 2012 Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії / А.А. Крючин, В.М. Рубіш, С.О. Костюкевич, В.І. Мінько, П.Є. Шепелявий, В.О. Лисюк, К.В. Костюкевич, М.А. Сурмач // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2012. — Т. 14, № 3. — С. 3-11. — Бібліогр.: 21 назв. — укр. 1560-9189 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/50580 004.85 Представлено результати аналізу властивостей фоточутливих матеріалів з нелінійною експозиційною характеристикою. Показано, що існує низка фото(термо)чутливих матеріалів, що дозволяють реєструвати зображення, розміри елементів яких менте діаметра експонуючого променя. Представлено результати лазерного запису на неорганічних фоторезистах. The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of laser writing to inorganic photoresists are presented. Автори висловлюють глибоку вдячність співробітникам Інститутів проблем реєстрації інформації і фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України за допомогу у виготовленні зразків носіїв інформації, здійснення запису інформації та обробки носіїв, а також за плідне обговорення результатів досліджень. uk Інститут проблем реєстрації інформації НАН України Реєстрація, зберігання і обробка даних Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії Registration Materials for Laser Thermolithography Article published earlier |
| spellingShingle | Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії Крючин, А.А. Рубіш, В.М. Костюкевич, С.О. Мінько, В.І. Шепелявий, П.Є. Лисюк, В.О. Костюкевич, К.В. Сурмач, М.А. Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних |
| title | Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії |
| title_alt | Registration Materials for Laser Thermolithography |
| title_full | Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії |
| title_fullStr | Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії |
| title_full_unstemmed | Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії |
| title_short | Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії |
| title_sort | реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії |
| topic | Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних |
| topic_facet | Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/50580 |
| work_keys_str_mv | AT krûčinaa reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT rubíšvm reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT kostûkevičso reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT mínʹkoví reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT šepelâviipê reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT lisûkvo reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT kostûkevičkv reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT surmačma reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT krûčinaa registrationmaterialsforlaserthermolithography AT rubíšvm registrationmaterialsforlaserthermolithography AT kostûkevičso registrationmaterialsforlaserthermolithography AT mínʹkoví registrationmaterialsforlaserthermolithography AT šepelâviipê registrationmaterialsforlaserthermolithography AT lisûkvo registrationmaterialsforlaserthermolithography AT kostûkevičkv registrationmaterialsforlaserthermolithography AT surmačma registrationmaterialsforlaserthermolithography |