Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків
Розглянуто вплив хімічного складу, температури, швидкості потоку електроліту, зміни густини струму у процесі вирощування гальваноматриць на однорідність, механічні напруження та шорсткість поверхні штампів. Рассмотрено влияние химического состава, температуры, скорости потока электролита, изменения...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Реєстрація, зберігання і обробка даних |
|---|---|
| Дата: | 2004 |
| Автори: | , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
2004
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/50651 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків / В.В. Петров, А.А. Крючин, Є.В. Боднар, А.В. Панкратова, Т.П. Дорошенко, В.О. Заболотний // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2004. — Т. 6, № 2. — С. 3-10. — Бібліогр.: 7 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1860225776051290112 |
|---|---|
| author | Петров, В.В. Крючин, А.А. Боднар, Є.В. Панкратова, А.В. Дорошенко, Т.П. Заболотний, В.О. |
| author_facet | Петров, В.В. Крючин, А.А. Боднар, Є.В. Панкратова, А.В. Дорошенко, Т.П. Заболотний, В.О. |
| citation_txt | Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків / В.В. Петров, А.А. Крючин, Є.В. Боднар, А.В. Панкратова, Т.П. Дорошенко, В.О. Заболотний // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2004. — Т. 6, № 2. — С. 3-10. — Бібліогр.: 7 назв. — укр. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Реєстрація, зберігання і обробка даних |
| description | Розглянуто вплив хімічного складу, температури, швидкості потоку електроліту, зміни густини струму у процесі вирощування гальваноматриць на однорідність, механічні напруження та шорсткість поверхні штампів.
Рассмотрено влияние химического состава, температуры, скорости потока электролита, изменения тока в процессе выращивания гальваноматриц на однородность, механические напряжения и шероховатость поверхности штампов
Influence of chemical composition, temperature, electrolyte flow velocity, change of a current during growing of stampers on homogeneity, mechanical stresses and roughness of stampers surface is considered.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:19:40Z |
| format | Article |
| fulltext |
Фізичні основи, принципи і методи
реєстрації даних
ISSN 1560-9189 Реєстрація, зберігання і обробка даних, 2004, Т. 6, № 2 3
УДК 004.023
В. В. Петров, А. А. Крючин, Є. В. Боднар,
А. В. Панкратова, Т. П. Дорошенко, В. О. Заболотний
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
вул. М. Шпака, 2, 03113 Київ, Україна
Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного
осадження нікелю на характеристики штампів
для тиражування компакт-дисків
Розглянуто вплив хімічного складу, температури, швидкості потоку
електроліту, зміни густини струму у процесі вирощування гальвано-
матриць на однорідність, механічні напруження та шорсткість по-
верхні штампів.
Ключові слова: гальванопластика, електроліт, внутрішні напружен-
ня, сульфамат нікелю, штамп.
Вступ
Гальванопластика є одним з базових технологічних процесів отримання шта-
мпів для тиражування компакт-дисків, дифракційних ґраток, голограм [1]. У ро-
боті [2] пропонується використання гальванічного осадження магнітних матеріа-
лів у вигляді стовбчастих структур для створення носіїв інформації з високою ро-
здільною здатністю. У зазначених галузях застосування до гальванічних осадів
висуваються досить жорсткі вимоги наявності домішок, відсутності значних ме-
ханічних напружень та дефектів кристалічної структури. Для тиражування ком-
пакт-дисків широко застосовують нікелеві штампи товщиною (295 ± 5) мм та діа-
метром 140 мм. Одна сторона штампу, створеного у процесі осадження, є копією
поверхні диску-оригіналу з записаною у вигляді мікрорельєфу інформацією (рис.
1), а інша — дзеркально полірованою. До штампу додатково висуваються наступ-
ні вимоги:
— не повинно бути дефектів таких як пітінг (характерний для гальванічних
осадів дефект у вигляді мікроотворів на поверхні осадів) і дендритів (утворення
ниткоподібних кристалів та деревоподібних відростків);
— мінімальні внутрішні напруження;
— мікротвердість приблизно 300 HV100;
— шорсткість Ra » 0,5–1,5 мкм.
© В. В. Петров, А. А. Крючин, Є. В. Боднар, А. В. Панкратова, Т. П. Дорошенко, В. О. Заболотний
В. В. Петров, А. А. Крючин, Є. В. Боднар, А. В. Панкратова, Т. П. Дорошенко, В. О. Заболотний
4
Завдання дослідження полягало у вивченні процесу швидкісного (> 5 мкм/хв)
вирощування нікелевих осадів та розробці малогабаритного екологічно безпечно-
го для обслуговуючого персоналу реактора для гальванічного осадження штампів,
які використовуються при тиражуванні компакт-дисків.
Рис. 1. Загальний вигляд інформаційної поверхні нікелевого штампу
Аналіз умов для отримання штампів із визначеними властивостями
Для вирощування штампів для тиражування компакт-дисків застосовується
сульфаміновокислий електроліт, основним компонентом якого є сульфамат ніке-
лю Ni(NH2SO3)2. Його широке застосування пов’язано з тим, що отримані осади
мають низькі, відносно інших електролітів, внутрішні напруження, висока роз-
чинність сульфамату нікелю » 900 г/л дозволяє значно підвищити густину струму.
У той же час використання сульфаматного електроліту, а також особливості
вимог до штампів вимагають виконання наступних умов:
— постійного очищення електроліту від домішок;
— підтримання з досить високою точністю (55 ± 0,5 °С) температури елект-
роліту;
— забезпечення інтенсивної циркуляції електроліту біля ТЕНів для запобі-
гання локального підвищення температури;
— підтримання швидкості потоку не нижче 20 л/хв для змиву бульбашок во-
дню з поверхні катода та недопущення локального перегріву електроліту при ви-
соких щільностях току (18 ¸ 22) А/дм2, необхідних для вирощування штампу за
50–70 хв.
Сульфаміновокислий електроліт є дуже чутливим до домішок. Навіть невели-
кі кількості іонів деяких металів можуть значно впливати на процес нарощування,
що приводить до появи різних дефектів. Вплив іонів деяких металів та їх допус-
тимі концентрації наведені в табл. 1. Для очищення від неорганічних забруднень у
ванні підготовки встановлено електроочищення електроліту при струмі
0,1–1 А/дм2. Крім неорганічних речовин електроліт дуже чутливий до органічних
забруднень, внаслідок чого електроліт має періодично пропускатися крізь активо-
ване вугілля.
Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного
осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків
ISSN 1560-9189 Реєстрація, зберігання і обробка даних, 2004, Т. 6, № 2 5
Таблиця 1. Вплив іонів деяких металів на процес вирощування нікелевих осадів
у сульфаміновокислому електроліті
Домішки
Допустима
концентрація,
10–6
Вплив домішок
Звичайний
рівень забруд-
нення у чистій
ванні, 10–6
Залізо 200
Збільшення напружень і твердості,
зменшення пластичності.
< 10
Мідь 10
Зменшення пластичності й виходу
по струму. Темний колір. 0,1
Цинк 10
Зменшення пластичності й виходу
по струму. Розтріскування осадів.
< 0,1
Свинець 2
Зменшення твердості. Зменшення
пластичності нікелю після нагрівання.
< 0,1
Алюміній 6 Підпалення осадів. 0
Хром, три- або
шестивалентний
2
Зменшення пластичності й виходу
по току.
0
Сульфамат-іон має здатність до гідролізу при високих температурах та низь-
кому рН (табл. 2), яке відбувається за схемою
NH2SO -
3 + H2O ® NH +
4 + SO -2
4 .
Іони амонію, які утворюються внаслідок гідролізу, негативно впливають на про-
цес нарощування та не піддаються виведенню з електроліту, тому необхідно підт-
римувати температуру електроліту і не допускати перегріву ванни вище 70 °С та
зменшення рН нижче 3.
Таблиця 2. Вплив pH та концентрації сульфамату нікелю на його гідроліз
Концентрація
сульфамату нікелю, г/л
Температура,
°С
рH Збільшення концентрації
іонів амонію через 336 годин, г/л
300
70
2,0
4,0
5,5
9,7
0,95
0,1
450
70
2,0
4,0
5,5
–
0,33
0,1
600
70
2,0
4,0
5,5
8,5
8,18
0,1
600 65 4,0 0,035
В. В. Петров, А. А. Крючин, Є. В. Боднар, А. В. Панкратова, Т. П. Дорошенко, В. О. Заболотний
6
Для вирощування нікелевих штампів найчастіше використовується водний
електроліт такого складу:
Компонент Концентрація
Ni(NH2SO3)2 500–600 г/л
H3BO3 30–50 г/л
NiCl2 2–10 г/л
Борна кислота застосовується для підвищення буферних властивостей елект-
роліту. Її концентрація може вільно варіюватись у зазначених межах, не сильно
впливаючи на процес. Іони хлору впливають на підвищення процесу розчинення
анодного нікелю та для запобігання пасивації катоду при підвищенні густини
струму, але іони хлору впливають на напруження осадів, значно збільшуючи їх,
тому небажано збільшувати їх концентрацію. В якості анодів автори застосували
S-нікель, в якому присутня сірка у кількості 0,02 %, що значно знижує потенціал
розчинення нікелю.
Дослідження процесу вирощування нікелевих штампів
у малогабаритному реакторі
Для підготовки, очищення та стабілізації температури електроліту були обра-
ні традиційні схеми ванни підготовки електроліту та циркуляційної системи (рис.
2). Механічний та вугільний фільтри можуть розміщуватись як у додатковій водя-
ній бані (t = 53–55 °C), так і у ванні підготовки. Якість отриманих штампів у знач-
ній мірі залежить від ступеня очищення електроліту та рівня стабілізації темпера-
тури та кислотності електроліту.
Рис. 2. Циркуляційна система гальва-
нічної установки: 1 — реактор; 2 —
насос; 3 — пристрій для перемішу-
вання електроліту; 4 — електроочис-
тка; 5 — вугільний фільтр; 6 — меха-
нічні фільтри; 7 — сифон; 8 — ТЕНи
Досвід вирощування штампів для тиражування грамплатівок та компакт-
дисків показав необхідність циклічного обертання електроліту навколо підкладки.
Цим забезпечується як рівномірність процесу гальванічного осадження металу,
Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного
осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків
ISSN 1560-9189 Реєстрація, зберігання і обробка даних, 2004, Т. 6, № 2 7
так і уникнення утворення бульбашок водню на поверхні катоду, які екранують
зростаючий нікелевий осад та приводять до виникнення отворів (лунок) на повер-
хні осаду (пітінг). Запропоновано дві головні конструкції реакторів, що забезпе-
чують рівномірність процесу нарощування нікелю: реактор з нерухомим катодом і
реактор з рухомим катодом.
У першій конструкції реактора електроди занурені у невелику робочу ванну,
катод розташований паралельно аноду і під кутом 45° до поверхні електроліту та
обертається навколо своєї осі. Це забезпечує високу однорідність осадів за тов-
щиною та можливість зміни площі аноду і катоду. Більшість технологічних уста-
новок гальванопластики виготовляють з рухомим катодом. Деякі недоліки таких
установок пов’язані із забрудненням зони біля ванни продуктами зносу щіток
двигуна обертання катоду та необхідністю ручної зміни оператором металізовано-
го диску-оригіналу над відкритою ванною.
У другій конструкції ректора рівномірна циркуляція електроліту вздовж по-
верхні катоду забезпечується за рахунок подачі електроліту під тиском крізь сис-
тему отворів (кількість отворів 6–12). Осі каналів, крізь які подається електроліт,
спрямовані не до центру катоду, а зміщені на 30–60°. Крім того, для більш ефек-
тивного змивання бульбашок водню з катоду вони можуть бути нахилені на 5–10°
до площини катоду.
Загальний вигляд реактора з нерухомим катодом, розробленого авторами, на-
ведено на рис. 3. Запропонована конструкція реактора є герметичною, що забез-
печує відсутність випаровування електроліту та зручність експлуатації.
Рис. 3. Схема гальванічного реактора струминного типу
При дослідженні процесу вирощування штампів у реакторі циклотронного
типу головну увагу було приділено визначенню умов отримання осадів з мініма-
льними механічними напруженнями та шорсткістю.
Було встановлено, що мінімальні механічні напруження можуть бути отри-
мані в осадах при температурі 54–56 °С (рис. 4). Ці дані співпадають з раніш
В. В. Петров, А. А. Крючин, Є. В. Боднар, А. В. Панкратова, Т. П. Дорошенко, В. О. Заболотний
8
отриманими для реакторів з рухомим катодом. При подальших дослідженнях те-
мпература електроліту підтримувалась рівною (55 ± 0,5)°С.
Рис. 4. Залежність механічних напружень у нікелевих осадах від рН і температури
Зміни механічних напружень виявились найбільш чутливими до змін кислот-
ності електроліту. Кислотність електроліту змінювалась додаванням сульфаміно-
вої кислоти. Найменші напруження спостерігались при pH у діапазоні 4,1 ¸ 4,2
(концентрація іонів хлору при цьому складала 6 г/л). Зміни кислотності електролі-
ту суттєво впливали на шорсткість осадів. Збільшення шорсткості осадів при під-
вищенні кислотності електроліту може бути пояснена утворенням при високих pH
(> 4,4) гідрооксиду нікелю, включення якого до кристалічної ґратки нікелю веде
до появи великої кількості дефектів. Вирощування осадів при низьких значеннях
pH (< 3,8) неможливо внаслідок інтенсивного виділення водню на катоді, що при-
водить до пітінгу.
Намагання зменшити час вирощування штампів за рахунок підвищення гус-
тини струму приводить до зростання в них механічних напружень. Аналіз режи-
мів роботи відомих установок вирощування штампів показав, що густини струму
більш ніж 20 А/дм² не застосовуються.
Шорсткість осадів найбільш чутлива до забруднень електроліту і може вва-
жатися критерієм оперативного контролю його необхідної чистоти. Шорсткість
осадів із значенням не більше Rа = 0,5 ¸ 1,0 є придатною для виготовлення штам-
пів. У процесі шліфування та поліровки тильної сторони осаду повинна бути
отримана дзеркальна поверхня (Rа = 0,05) за 2–3 хвилини обробки без порушень
структури штампу.
На характеристику штампу значно впливає початковий етап вирощування
осаду, при якому формується шар металу, що дзеркально повторює рельєфну мік-
роструктуру (піти) на поверхні металізованого диска-оригінала. З одного боку
проходження струму з високою густиною крізь тонку металеву плівку може приз-
вести до її руйнування, а з іншого — при густині струму 0,1¸ 5,0 А/дм² з найбі-
льшою швидкістю осаджуються домішки металів з електроліту. Це призводить до
забруднення інформаційної поверхні штампу і зменшує кількість реплік, які мож-
0,11
0,12
0,13
0,14
0,15
0,16
0,17
0,18
3 3,5 4 4,5 5
pH
, ГПа
0,08
0,10
0,12
0,14
0,16
30 40 50 60
T, C
G, ГПа
s, ГПа
рН
s, ГПа
Т, оС
Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного
осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків
ISSN 1560-9189 Реєстрація, зберігання і обробка даних, 2004, Т. 6, № 2 9
ливо зробити. Штампи, отримані при дуже повільному (менш 0,01 A/с) зростанні
анодного струму мали коефіцієнт відбиття на 20–25 % нижчий ніж при рекомен-
дованих режимах підвищення струму. Суттєвої різниці між рекомендованими
змінами анодного струму в початковий період зростання струму для реакторів з
рухомим катодом і запропонованого нами для реактора струминного типу визна-
чено не було.
Результати досліджень і рекомендації
У розробленому реакторі струминного типу отримано гальванічні осади, з
яких після механічної обробки можуть бути отримані штампи для тиражування
компакт-дисків.
При дослідженні процесу виготовлення штампів для тиражування компакт-
дисків визначені головні типи дефектів, що роблять штампи непридатними до ви-
користання, а саме:
— виникнення отворів на поверхні штампів (пітінг);
— локальні збільшення товщини штампів, біля яких після механічної оброб-
ки залишаються кільцеві заглиблення, які відбиваються на поверхні компакт-
дисків при тиражуванні;
— значна шорсткість осадів, що приводить до мікрозаглиблень на поверхні
штампів;
— підвищені механічні напруження, що не дозволяють здійснювати процес
лиття;
— нерівномірний розподіл товщини штампів (різнотовщинність перевищує
5 мкм).
Причини появи цих дефектів та методи їх усунення наведено у табл. 3.
Таблиця 3. Причини появи та методи усунення дефектів при виготовленні
штампів для тиражування компакт-дисків
Дефект Причина Методи усунення
Утворення бульбашок водню на
катоді внаслідок низького рН Додавання сульфамінової кислоти
Забруднення органічними
речовинами
Очищення активованим вугіллям,
додавання перекису водню
Забруднення залізом. Електроочищення.
Пітінг
Висока густина струму Зменшення напруги
Дендритоутворення,
висока шорсткість
Забруднення електроліту
механічними частками
Заміна механічних фільтрів
Висока крихкість,
темні осади
Забруднення сполуками сірки
Довготривале електроочищення,
додавання перекису водню
Занизьке або зависоке рН Регулювання рН
Довготривале затягування Зменшення затягування
Високі внутрішні
напруження
Забруднення електроліту
Проведення комплексного
очищення електроліту
В. В. Петров, А. А. Крючин, Є. В. Боднар, А. В. Панкратова, Т. П. Дорошенко, В. О. Заболотний
10
Висновки
1. Реактори струминного типу дозволяють вирощувати нікелеві осади зі шви-
дкістю до 5–6 мкм/хв. Вони придатні для виготовлення штампів для тиражування
компакт-дисків за умов постійного очищення електроліту та стабілізації його те-
мператури з точністю ± 0,5 °С.
2. Найбільший вплив на характеристики нікелевих штампів мають кислот-
ність електроліту та ступінь його очищення.
3. Реактори струминного типу мають перевагу перед іншими типами реак-
торів завдяки циркуляції електроліту у замкненому об’ємі.
Подяки
Автори висловлюють щиру подяку спеціалістам Інституту проблем реєстрації
інформації НАН України, які в різний час займались розробкою та виготовленням
технологічного обладнання для дільниці гальванопластики, спеціалістам Інститу-
ту проблем матеріалознавства НАН України за проведення аналізів складу штам-
пів та спеціалістам Інституту фізики напівпровідників за проведення аналізу по-
верхні штампів.
1. Pohlman K.C. The Compact Disk Handbook. — 2-d. ed.— Wisconsin (USA): A-R Editions.
Inc., Madison, 1992. — 349 p.
2. Todorovic M., Shultz S., Wong J., Scherer A. Patterned Media: Giant Step in Magnetic Sorage //
Data Storage. — 1999. — N S. — Р. 17–20.
3. Антропов Л. А. Теоретическая электрохимия. — М.: Высшая школа, 1965.
4. Технология гальванопластики: Справочное пособие / Садаков Г.А., Филимонов О.В. —
М.: Машиностроение, 1979.
5. Stain B. A Practical Guide to Understanding, Measuring and Controlling Stress in Electroplated
Metals / AESF Electroforming Symposium. — 1996.
6. Alec Watson. Nickel Sulphamate Solutions. — Nickel Development Institute, 1989.
7. Peter T. Tang, Sc., Dr. Peter Leisner and Dr. Per Moller. Improvements of Nickel Seposit
Characteristics by Pulse Plating. — Center of Advance Electroplating (CAG). The Technical university of
Denmark.
Надійшла до редакції 01.04.2004
Вступ
Вступ
Аналіз умов для отримання штампів із визначеними властивостями
Компонент
Концентрація
H3BO3
Дослідження процесу вирощування нікелевих штампів
у малогабаритному реакторі
Результати досліджень і рекомендації
Висновки
Подяки
|
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-50651 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1560-9189 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-12-07T18:19:40Z |
| publishDate | 2004 |
| publisher | Інститут проблем реєстрації інформації НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Петров, В.В. Крючин, А.А. Боднар, Є.В. Панкратова, А.В. Дорошенко, Т.П. Заболотний, В.О. 2013-10-27T00:46:32Z 2013-10-27T00:46:32Z 2004 Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків / В.В. Петров, А.А. Крючин, Є.В. Боднар, А.В. Панкратова, Т.П. Дорошенко, В.О. Заболотний // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2004. — Т. 6, № 2. — С. 3-10. — Бібліогр.: 7 назв. — укр. 1560-9189 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/50651 004.023 Розглянуто вплив хімічного складу, температури, швидкості потоку електроліту, зміни густини струму у процесі вирощування гальваноматриць на однорідність, механічні напруження та шорсткість поверхні штампів. Рассмотрено влияние химического состава, температуры, скорости потока электролита, изменения тока в процессе выращивания гальваноматриц на однородность, механические напряжения и шероховатость поверхности штампов Influence of chemical composition, temperature, electrolyte flow velocity, change of a current during growing of stampers on homogeneity, mechanical stresses and roughness of stampers surface is considered. Автори висловлюють щиру подяку спеціалістам Інституту проблем реєстрації інформації НАН України, які в різний час займались розробкою та виготовленням технологічного обладнання для дільниці гальванопластики, спеціалістам Інституту проблем матеріалознавства НАН України за проведення аналізів складу штампів та спеціалістам Інституту фізики напівпровідників за проведення аналізу поверхні штампів. uk Інститут проблем реєстрації інформації НАН України Реєстрація, зберігання і обробка даних Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків Влияние физико-химических параметров процесса гальванического осаждения никеля на характеристики штампов для тиражирования компакт-дисков Influence of Physico-Chemical Parameters of a Nickel Galvanic Deposition Process on the Performances of Stampers for CD Replication Article published earlier |
| spellingShingle | Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків Петров, В.В. Крючин, А.А. Боднар, Є.В. Панкратова, А.В. Дорошенко, Т.П. Заболотний, В.О. Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних |
| title | Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків |
| title_alt | Влияние физико-химических параметров процесса гальванического осаждения никеля на характеристики штампов для тиражирования компакт-дисков Influence of Physico-Chemical Parameters of a Nickel Galvanic Deposition Process on the Performances of Stampers for CD Replication |
| title_full | Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків |
| title_fullStr | Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків |
| title_full_unstemmed | Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків |
| title_short | Вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків |
| title_sort | вплив фізико-хімічних параметрів процесу гальванічного осадження нікелю на характеристики штампів для тиражування компакт-дисків |
| topic | Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних |
| topic_facet | Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/50651 |
| work_keys_str_mv | AT petrovvv vplivfízikohímíčnihparametrívprocesugalʹvaníčnogoosadžennâníkelûnaharakteristikištampívdlâtiražuvannâkompaktdiskív AT krûčinaa vplivfízikohímíčnihparametrívprocesugalʹvaníčnogoosadžennâníkelûnaharakteristikištampívdlâtiražuvannâkompaktdiskív AT bodnarêv vplivfízikohímíčnihparametrívprocesugalʹvaníčnogoosadžennâníkelûnaharakteristikištampívdlâtiražuvannâkompaktdiskív AT pankratovaav vplivfízikohímíčnihparametrívprocesugalʹvaníčnogoosadžennâníkelûnaharakteristikištampívdlâtiražuvannâkompaktdiskív AT dorošenkotp vplivfízikohímíčnihparametrívprocesugalʹvaníčnogoosadžennâníkelûnaharakteristikištampívdlâtiražuvannâkompaktdiskív AT zabolotniivo vplivfízikohímíčnihparametrívprocesugalʹvaníčnogoosadžennâníkelûnaharakteristikištampívdlâtiražuvannâkompaktdiskív AT petrovvv vliâniefizikohimičeskihparametrovprocessagalʹvaničeskogoosaždeniânikelânaharakteristikištampovdlâtiražirovaniâkompaktdiskov AT krûčinaa vliâniefizikohimičeskihparametrovprocessagalʹvaničeskogoosaždeniânikelânaharakteristikištampovdlâtiražirovaniâkompaktdiskov AT bodnarêv vliâniefizikohimičeskihparametrovprocessagalʹvaničeskogoosaždeniânikelânaharakteristikištampovdlâtiražirovaniâkompaktdiskov AT pankratovaav vliâniefizikohimičeskihparametrovprocessagalʹvaničeskogoosaždeniânikelânaharakteristikištampovdlâtiražirovaniâkompaktdiskov AT dorošenkotp vliâniefizikohimičeskihparametrovprocessagalʹvaničeskogoosaždeniânikelânaharakteristikištampovdlâtiražirovaniâkompaktdiskov AT zabolotniivo vliâniefizikohimičeskihparametrovprocessagalʹvaničeskogoosaždeniânikelânaharakteristikištampovdlâtiražirovaniâkompaktdiskov AT petrovvv influenceofphysicochemicalparametersofanickelgalvanicdepositionprocessontheperformancesofstampersforcdreplication AT krûčinaa influenceofphysicochemicalparametersofanickelgalvanicdepositionprocessontheperformancesofstampersforcdreplication AT bodnarêv influenceofphysicochemicalparametersofanickelgalvanicdepositionprocessontheperformancesofstampersforcdreplication AT pankratovaav influenceofphysicochemicalparametersofanickelgalvanicdepositionprocessontheperformancesofstampersforcdreplication AT dorošenkotp influenceofphysicochemicalparametersofanickelgalvanicdepositionprocessontheperformancesofstampersforcdreplication AT zabolotniivo influenceofphysicochemicalparametersofanickelgalvanicdepositionprocessontheperformancesofstampersforcdreplication |