Формирование информационного рельефа в некоторых неметаллических материалах

• Veröffentlicht in: Реєстрація, зберігання і обробка даних
• Datum: 2006
• ISSN: 1560-9189
• Hauptverfasser: Косско, И.А., Крючин, А.А., Кравец, В.Г., Мохнюк, А.А., Оберемок, А.С.
• Format: Artikel
• Sprache: Russisch
• Veröffentlicht: Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2006
• Schlagworte: Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/50823
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Формирование информационного рельефа в некоторых неметаллических материалах / И.А. Косско, А.А. Крючин, В.Г. Кравец, А.А. Мохнюк, А.С. Оберемок // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2006. — Т. 8, № 1. — С. 3-8. — Бібліогр.: 7 назв. — pос.

Исследована возможность формирования информационного рельефа в некоторых неметаллических материалах, полученных методом реакционного спекания и горячего прессования (SiC, SiC+В₄С и Si₃N₄, Si₃N₄+В₄С, AlN), а также в монокристаллическом кремнии. Для получения микрорельефа использован метод плазмохимического травления. Досліджено можливість формування інформаційного рельєфу в деяких неметалічних матеріалах, отриманих методом реакційного спікання та гарячого пресування (SiC, SiC+В₄С і Si₃N₄, Si₃N₄+В₄С, AlN), а також у монокристалічному кремнії. Для отримання мікрорельєфу використано метод плазмохімічного травлення. An opportunity of forming the information relief in certain nonmetal materials obtained by a technique of reaction baking and hot pressing (SiC, SiC+В₄С and Si₃N₄, Si₃N₄+В₄С, AlN) as well as in monocrystalline silicon is investigated. For obtaining a microrelief the plasmochemical etching technique is used.