Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники
Исследовано влияние типа металлизации и микроволнового облучения на свойства омических контактов к гетеро-структурам, содержащим фуллерены. Выявлено преимущество титановой металлизации перед золотой. Розглянуто два види металізації (Au, Ti) до матеріалу, що містить фулерен. Досліджено ефективність м...
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2010 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2010
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51983 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники / Р.В. Конакова, Е.Ю. Колядина, Л.А, Матвеева П.Л. Нелюба, В.В. Шинкаренко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 40-42. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-51983 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Конакова, Р.В. Колядина, Е.Ю. Матвеева, Л.А Нелюба, П.Л. Шинкаренко, В.В. 2013-12-22T00:54:49Z 2013-12-22T00:54:49Z 2010 Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники / Р.В. Конакова, Е.Ю. Колядина, Л.А, Матвеева П.Л. Нелюба, В.В. Шинкаренко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 40-42. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51983 Исследовано влияние типа металлизации и микроволнового облучения на свойства омических контактов к гетеро-структурам, содержащим фуллерены. Выявлено преимущество титановой металлизации перед золотой. Розглянуто два види металізації (Au, Ti) до матеріалу, що містить фулерен. Досліджено ефективність мікрохвильоого відпалу полімер-фулеренового шару з обома металізаціями, та показано, що НВЧ-обробка знижує сумарний опір структури в обох випадках. Показано перспективність використання титанової металізації у порівнянні з золотою, та проаналізовано механізми, що обумовлюють якість титанової металізації.ѕ Two types of metallization (Au, Ti) to a fullerene-bearing material are investigated. The advantages of microwave annealing are noted. Microwave annealing of polymer-fullerene layers with both metallizations is studied; the resistance decreases in both cases. The titanium metallization seems to be more promising than the gold one. The mechanisms responsible for titanium metallization quality are presented. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники Радіаційна технологія покращення омічних контактів до елементів електронної техніки Radiation technology for improvement of ohmic contacts to the electronic device elements Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники |
| spellingShingle |
Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники Конакова, Р.В. Колядина, Е.Ю. Матвеева, Л.А Нелюба, П.Л. Шинкаренко, В.В. Технологические процессы и оборудование |
| title_short |
Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники |
| title_full |
Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники |
| title_fullStr |
Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники |
| title_full_unstemmed |
Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники |
| title_sort |
радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники |
| author |
Конакова, Р.В. Колядина, Е.Ю. Матвеева, Л.А Нелюба, П.Л. Шинкаренко, В.В. |
| author_facet |
Конакова, Р.В. Колядина, Е.Ю. Матвеева, Л.А Нелюба, П.Л. Шинкаренко, В.В. |
| topic |
Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet |
Технологические процессы и оборудование |
| publishDate |
2010 |
| language |
Russian |
| container_title |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Радіаційна технологія покращення омічних контактів до елементів електронної техніки Radiation technology for improvement of ohmic contacts to the electronic device elements |
| description |
Исследовано влияние типа металлизации и микроволнового облучения на свойства омических контактов к гетеро-структурам, содержащим фуллерены. Выявлено преимущество титановой металлизации перед золотой.
Розглянуто два види металізації (Au, Ti) до матеріалу, що містить фулерен. Досліджено ефективність мікрохвильоого відпалу полімер-фулеренового шару з обома металізаціями, та показано, що НВЧ-обробка знижує сумарний опір структури в обох випадках. Показано перспективність використання титанової металізації у порівнянні з золотою, та проаналізовано механізми, що обумовлюють якість титанової металізації.ѕ
Two types of metallization (Au, Ti) to a fullerene-bearing material are investigated. The advantages of microwave annealing are noted. Microwave annealing of polymer-fullerene layers with both metallizations is studied; the resistance decreases in both cases. The titanium metallization seems to be more promising than the gold one. The mechanisms responsible for titanium metallization quality are presented.
|
| issn |
2225-5818 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51983 |
| citation_txt |
Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники / Р.В. Конакова, Е.Ю. Колядина, Л.А, Матвеева П.Л. Нелюба, В.В. Шинкаренко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 40-42. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT konakovarv radiacionnaâtehnologiâulučšeniâomičeskihkontaktovkélementamélektronnoitehniki AT kolâdinaeû radiacionnaâtehnologiâulučšeniâomičeskihkontaktovkélementamélektronnoitehniki AT matveevala radiacionnaâtehnologiâulučšeniâomičeskihkontaktovkélementamélektronnoitehniki AT nelûbapl radiacionnaâtehnologiâulučšeniâomičeskihkontaktovkélementamélektronnoitehniki AT šinkarenkovv radiacionnaâtehnologiâulučšeniâomičeskihkontaktovkélementamélektronnoitehniki AT konakovarv radíacíinatehnologíâpokraŝennâomíčnihkontaktívdoelementívelektronnoítehníki AT kolâdinaeû radíacíinatehnologíâpokraŝennâomíčnihkontaktívdoelementívelektronnoítehníki AT matveevala radíacíinatehnologíâpokraŝennâomíčnihkontaktívdoelementívelektronnoítehníki AT nelûbapl radíacíinatehnologíâpokraŝennâomíčnihkontaktívdoelementívelektronnoítehníki AT šinkarenkovv radíacíinatehnologíâpokraŝennâomíčnihkontaktívdoelementívelektronnoítehníki AT konakovarv radiationtechnologyforimprovementofohmiccontactstotheelectronicdeviceelements AT kolâdinaeû radiationtechnologyforimprovementofohmiccontactstotheelectronicdeviceelements AT matveevala radiationtechnologyforimprovementofohmiccontactstotheelectronicdeviceelements AT nelûbapl radiationtechnologyforimprovementofohmiccontactstotheelectronicdeviceelements AT šinkarenkovv radiationtechnologyforimprovementofohmiccontactstotheelectronicdeviceelements |
| first_indexed |
2025-11-28T18:14:23Z |
| last_indexed |
2025-11-28T18:14:23Z |
| _version_ |
1850854058392289280 |