СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда....
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2005 |
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2005
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53682 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862713618790875136 |
|---|---|
| author | Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. |
| author_facet | Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. |
| citation_txt | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда.
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:45:26Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-53682 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T17:45:26Z |
| publishDate | 2005 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. 2014-01-25T21:14:57Z 2014-01-25T21:14:57Z 2005 СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53682 Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов НВЧ плазмохімічне осадження структур для високоапертурних планарних оптичних хвилеводів Microwave plasmochemical deposition of structures for highaperture planar optical waveguide Article published earlier |
| spellingShingle | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. Технологические процессы и оборудование |
| title | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_alt | НВЧ плазмохімічне осадження структур для високоапертурних планарних оптичних хвилеводів Microwave plasmochemical deposition of structures for highaperture planar optical waveguide |
| title_full | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_fullStr | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_full_unstemmed | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_short | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_sort | свч плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| topic | Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet | Технологические процессы и оборудование |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53682 |
| work_keys_str_mv | AT grigorʹâncvv svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT dolgovap svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT kočmarevlû svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT šilovip svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT grigorʹâncvv nvčplazmohímíčneosadžennâstrukturdlâvisokoaperturnihplanarnihoptičnihhvilevodív AT dolgovap nvčplazmohímíčneosadžennâstrukturdlâvisokoaperturnihplanarnihoptičnihhvilevodív AT kočmarevlû nvčplazmohímíčneosadžennâstrukturdlâvisokoaperturnihplanarnihoptičnihhvilevodív AT šilovip nvčplazmohímíčneosadžennâstrukturdlâvisokoaperturnihplanarnihoptičnihhvilevodív AT grigorʹâncvv microwaveplasmochemicaldepositionofstructuresforhighapertureplanaropticalwaveguide AT dolgovap microwaveplasmochemicaldepositionofstructuresforhighapertureplanaropticalwaveguide AT kočmarevlû microwaveplasmochemicaldepositionofstructuresforhighapertureplanaropticalwaveguide AT šilovip microwaveplasmochemicaldepositionofstructuresforhighapertureplanaropticalwaveguide |