СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда....
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Дата: | 2005 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2005
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53682 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-53682 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. 2014-01-25T21:14:57Z 2014-01-25T21:14:57Z 2005 СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53682 Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов НВЧ плазмохімічне осадження структур для високоапертурних планарних оптичних хвилеводів Microwave plasmochemical deposition of structures for highaperture planar optical waveguide Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| spellingShingle |
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. Технологические процессы и оборудование |
| title_short |
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_full |
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_fullStr |
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_full_unstemmed |
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| title_sort |
свч плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов |
| author |
Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. |
| author_facet |
Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. |
| topic |
Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet |
Технологические процессы и оборудование |
| publishDate |
2005 |
| language |
Russian |
| container_title |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
НВЧ плазмохімічне осадження структур для високоапертурних планарних оптичних хвилеводів Microwave plasmochemical deposition of structures for highaperture planar optical waveguide |
| description |
Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда.
|
| issn |
2225-5818 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53682 |
| citation_txt |
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT grigorʹâncvv svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT dolgovap svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT kočmarevlû svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT šilovip svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT grigorʹâncvv nvčplazmohímíčneosadžennâstrukturdlâvisokoaperturnihplanarnihoptičnihhvilevodív AT dolgovap nvčplazmohímíčneosadžennâstrukturdlâvisokoaperturnihplanarnihoptičnihhvilevodív AT kočmarevlû nvčplazmohímíčneosadžennâstrukturdlâvisokoaperturnihplanarnihoptičnihhvilevodív AT šilovip nvčplazmohímíčneosadžennâstrukturdlâvisokoaperturnihplanarnihoptičnihhvilevodív AT grigorʹâncvv microwaveplasmochemicaldepositionofstructuresforhighapertureplanaropticalwaveguide AT dolgovap microwaveplasmochemicaldepositionofstructuresforhighapertureplanaropticalwaveguide AT kočmarevlû microwaveplasmochemicaldepositionofstructuresforhighapertureplanaropticalwaveguide AT šilovip microwaveplasmochemicaldepositionofstructuresforhighapertureplanaropticalwaveguide |
| first_indexed |
2025-12-07T17:45:26Z |
| last_indexed |
2025-12-07T17:45:26Z |
| _version_ |
1850872458678108160 |