Получение аморфных пленок гидрогенизированного углерода низкотемпературной плазме тлеющего разряда

• Опубліковано в: : Породоразрушающий и металлообрабатывающий инструмент – техника и технология его изготовления и применения
• Дата: 2011
• Автори: Варшавская, И.Г., Буховец, В.Л.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2011
• Теми: Инструментальные, конструкционные и функциональные материалы на основе алмаза и кубического нитрида бора
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/63269
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Получение аморфных пленок гидрогенизированного углерода низкотемпературной плазме тлеющего разряда / И.Г. Варшавская, В.Л. Буховец // Породоразрушающий и металлообрабатывающий инструмент – техника и технология его изготовления и применения: Сб. науч. тр. — К.: ІНМ ім. В.М. Бакуля НАН України, 2011. — Вип. 14. — С. 385-389. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Исследовано осаждение пленок гидрогенизированного аморфного углерода из смеси циклогексанаргона и метана в низкотемпературной плазме тлеющего разряда при использовании двух электрических разрядов: частотой 50 Гц для создания проводящей среды и активации газа в положительном столбе тлеющего разряда, 5–80 и 250 кГц для управления потоком ионов на поверхность осаждения, а также соотношение параметров процесса, свойств и микроструктуры пленок. Досліджено осадження плівок гидрогенізованого аморфного вуглецю з суміші циклогексанаргону і метану в низькотемпературній плазмі тліючого розряду при використанні двох електричних розрядів: частотою 50 Гц для створення провідного середовища та активації газу в позитивному стовпі тліючого розряду, 5-80 і 250 кГц для управління потоком іонів на поверхню осадження, а також співвідношення параметрів процесу, властивостей і мікроструктури плівок. Deposition of hydrogenated amorphous carbon films in low-temperature cyclohexan-argon and methane plasma of glow discharge was studied. Two electric discharges were applied: for creation of conductive medium and gas activation in positive column of glow discharge (50 Hz) and for ion flux training onto deposition surface (5-80 kHz and 250 kHz). Relation between the process parameters, properties and microstructure of carbon films was examined.