Тепловые процессы в микролазерных устройствах информационных систем

• Veröffentlicht in: Технология и конструирование в электронной аппаратуре
• Datum: 2000
• Hauptverfasser: Осинский, В.И., Вербицкий, В.Г., Николаенко, Ю.Е., Жук, С.К., Бобженко, С.В., Мержвинский, П.А.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2000
• Schlagworte: Обеспечение тепловых режимов аппаратуры
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70924
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Тепловые процессы в микролазерных устройствах информационных систем / В.И. Осинский, В.Г. Вербицкий, Ю.Е. Николаенко, С.К. Жук, С.В. Бобженко, П.А. Мержвинский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2000. — № 2-3. — С. 27-35. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Проведен комплексный анализ тепловых процессов в гетеролазерах и лазерных модулях скоростных волоконно-оптических систем. Приведена тепловая модель лазерного передатчика. Рассмотрены физико-технологические уровни обеспечения температурных режимов излучателя и устройства в целом. Обсуждаются механизм...