Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si

• Veröffentlicht in: Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
• Datum: 2011
• Hauptverfasser: Горох, Г.Г., Соловей, Д.В., Лабунов, В.А., Осинский, В.И., Мазунов, Д.О.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2011
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/75192
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si / Г.Г. Горох, Д.В. Соловей, В.А. Лабунов, В.И. Осинский, Д.О. Мазунов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2011. — Т. 9, № 4. — С. 913-923. — Бібліогр.: 29 назв. — рос.

Разработан и исследован метод формирования перфорированных плёнок АОА с регулярной ячеисто-пористой структурой и удалённым барьерным оксидным слоем при анодной поляризации системы Al/n-Si. Отработаны технологические режимы селективного роста полупроводниковых соединений InGaN в порах модифицированны...