Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si

Разработан и исследован метод формирования перфорированных плёнок АОА с регулярной ячеисто-пористой структурой и удалённым барьерным оксидным слоем при анодной поляризации системы Al/n-Si. Отработаны технологические режимы селективного роста полупроводниковых соединений InGaN в порах модифицированны...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Datum:2011
Hauptverfasser: Горох, Г.Г., Соловей, Д.В., Лабунов, В.А., Осинский, В.И., Мазунов, Д.О.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2011
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/75192
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si / Г.Г. Горох, Д.В. Соловей, В.А. Лабунов, В.И. Осинский, Д.О. Мазунов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2011. — Т. 9, № 4. — С. 913-923. — Бібліогр.: 29 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-75192
record_format dspace
spelling Горох, Г.Г.
Соловей, Д.В.
Лабунов, В.А.
Осинский, В.И.
Мазунов, Д.О.
2015-01-27T13:02:40Z
2015-01-27T13:02:40Z
2011
Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si / Г.Г. Горох, Д.В. Соловей, В.А. Лабунов, В.И. Осинский, Д.О. Мазунов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2011. — Т. 9, № 4. — С. 913-923. — Бібліогр.: 29 назв. — рос.
1816-5230
PACS numbers: 68.37.Hk, 68.55.J-, 78.60.Hk, 78.66.Fd, 78.67.Rb, 81.05.Rm, 81.40.Tv
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/75192
Разработан и исследован метод формирования перфорированных плёнок АОА с регулярной ячеисто-пористой структурой и удалённым барьерным оксидным слоем при анодной поляризации системы Al/n-Si. Отработаны технологические режимы селективного роста полупроводниковых соединений InGaN в порах модифицированных матриц АОА методом гидридной газофазной эпитаксии. Полученные самоорганизованные наноструктуры InGaN в порах анодного оксида алюминия характеризуются кристаллографической неполярной α-ориентацией. Выполнены исследования катодолюминесценции полученных структур и проанализированы их спектральные характеристики.
Розроблено та досліджено методу формування перфорованих плівок АОА з реґулярною комірчасто-поруватою структурою і віддаленим бар’єрним оксидним шаром при анодній поляризації системи Al/n-Si. Відпрацьовано технологічні режими селективного зростання напівпровідникових сполук InGaN у порах модифікованих матриць АОА методою гідридної газофазної епітаксії. Одержані самоорганізовані наноструктури InGaN в порах анодного оксиду алюмінію характеризуються кристалографічною неполярною α-орієнтацією. Виконано дослідження катодолюмінісценції одержаних структур і проаналізовано спектральні характеристики.
Processes of self-organizing of porous anodic alumina on n-type Si substrates are investigated. A method for formation of regular highly ordered alumina films with open pores on semiconductor substrates is developed. Processes of selective hydride gas-phase epitaxial growth of InGaN semiconductor nanostructures in the pores of the alumina modified matrixes are studied. Optical and electrophysical properties of InGaN nanosystems and corresponding correlation of technological regimes are investigated. Selforganized InGaN nanostructures localized in anodic alumina pores have nonpolar α-crystallographic orientation. Cathodoluminescence of fabricated structures and their spectral characteristics are investigated and analysed.
Работа выполнена при поддержке Белорусского республиканского фонда фундаментальных исследований в рамках проекта №Ф09К-126 по совместному конкурсу научных проектов БРФФИ−ГФФИУ.
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si
spellingShingle Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si
Горох, Г.Г.
Соловей, Д.В.
Лабунов, В.А.
Осинский, В.И.
Мазунов, Д.О.
title_short Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si
title_full Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si
title_fullStr Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si
title_full_unstemmed Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si
title_sort эпитаксиальные наноструктуры ingan, выращенные в порах анодного оксида алюминия на si
author Горох, Г.Г.
Соловей, Д.В.
Лабунов, В.А.
Осинский, В.И.
Мазунов, Д.О.
author_facet Горох, Г.Г.
Соловей, Д.В.
Лабунов, В.А.
Осинский, В.И.
Мазунов, Д.О.
publishDate 2011
language Russian
container_title Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
format Article
description Разработан и исследован метод формирования перфорированных плёнок АОА с регулярной ячеисто-пористой структурой и удалённым барьерным оксидным слоем при анодной поляризации системы Al/n-Si. Отработаны технологические режимы селективного роста полупроводниковых соединений InGaN в порах модифицированных матриц АОА методом гидридной газофазной эпитаксии. Полученные самоорганизованные наноструктуры InGaN в порах анодного оксида алюминия характеризуются кристаллографической неполярной α-ориентацией. Выполнены исследования катодолюминесценции полученных структур и проанализированы их спектральные характеристики. Розроблено та досліджено методу формування перфорованих плівок АОА з реґулярною комірчасто-поруватою структурою і віддаленим бар’єрним оксидним шаром при анодній поляризації системи Al/n-Si. Відпрацьовано технологічні режими селективного зростання напівпровідникових сполук InGaN у порах модифікованих матриць АОА методою гідридної газофазної епітаксії. Одержані самоорганізовані наноструктури InGaN в порах анодного оксиду алюмінію характеризуються кристалографічною неполярною α-орієнтацією. Виконано дослідження катодолюмінісценції одержаних структур і проаналізовано спектральні характеристики. Processes of self-organizing of porous anodic alumina on n-type Si substrates are investigated. A method for formation of regular highly ordered alumina films with open pores on semiconductor substrates is developed. Processes of selective hydride gas-phase epitaxial growth of InGaN semiconductor nanostructures in the pores of the alumina modified matrixes are studied. Optical and electrophysical properties of InGaN nanosystems and corresponding correlation of technological regimes are investigated. Selforganized InGaN nanostructures localized in anodic alumina pores have nonpolar α-crystallographic orientation. Cathodoluminescence of fabricated structures and their spectral characteristics are investigated and analysed.
issn 1816-5230
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/75192
citation_txt Эпитаксиальные наноструктуры InGaN, выращенные в порах анодного оксида алюминия на Si / Г.Г. Горох, Д.В. Соловей, В.А. Лабунов, В.И. Осинский, Д.О. Мазунов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2011. — Т. 9, № 4. — С. 913-923. — Бібліогр.: 29 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT gorohgg épitaksialʹnyenanostrukturyinganvyraŝennyevporahanodnogooksidaalûminiânasi
AT soloveidv épitaksialʹnyenanostrukturyinganvyraŝennyevporahanodnogooksidaalûminiânasi
AT labunovva épitaksialʹnyenanostrukturyinganvyraŝennyevporahanodnogooksidaalûminiânasi
AT osinskiivi épitaksialʹnyenanostrukturyinganvyraŝennyevporahanodnogooksidaalûminiânasi
AT mazunovdo épitaksialʹnyenanostrukturyinganvyraŝennyevporahanodnogooksidaalûminiânasi
first_indexed 2025-12-01T20:26:11Z
last_indexed 2025-12-01T20:26:11Z
_version_ 1850860867962273792