Установка для дослідження процесів рідинного травлення неорганічних резистів — середовищ для голографії та оптичного запису інформації

Розроблено установку для дослідження кінетики рідинного травлення тонких плівок халькогенідних склоподібних матеріалів (неорганічних резистів) і одержання інформаційного мікрорельєфу в статичному, динамічному з циркуляцією та динамічному з утилізацією травника режимах в інтервалі температур 293 - 35...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Реєстрація, зберігання і обробка даних
Datum:2008
Hauptverfasser: Тарнай, А.А., Кириленко, В.К., Рубіш, В.М., Гера, Е.В.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2008
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7565
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Установка для дослідження процесів рідинного травлення неорганічних резистів - середовищ для голографії та оптичного запису інформації / А.А. Тарнай, В.К. Кириленко, В.М. Рубіш, Е.В. Гера // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2008. — Т. 10, № 2. — С. 32-36. — Бібліогр.: 10 назв. — укp.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Розроблено установку для дослідження кінетики рідинного травлення тонких плівок халькогенідних склоподібних матеріалів (неорганічних резистів) і одержання інформаційного мікрорельєфу в статичному, динамічному з циркуляцією та динамічному з утилізацією травника режимах в інтервалі температур 293 - 353 K Разработана установка для исследования кинетики жидкостного травления тонких пленок халькогенидных стеклообразных материалов (неорганических резистов) и получения информационного микрорельефа в статическом, динамическом с циркуляцией и динамическом с утилизацией травителя режимах в интервале температур 293–253 К. An apparatus for investigations of liquid etching kinetics of thin chalcogenide vitreous films (inorganic resist) in static, dynamic with circulation and dynamic with utilization of the etchant, modes in the temperature range of 293–353 K and obtaining an information microrelief is developed.
ISSN:1560-9189