Buchumschlag

Способ создания микролинз диаметром менее 50 нм для нанолитографии методами атомной проекционной оптики

В данной статье предлагается способ создания массива микролинз, предназначенных для атомной проекционной нанолитографии, на мембране
 Si3N4 толщиной порядка 40 нм. На мембрану напыляется проводящая
 пленка толщиной порядка 30 нм, предотвращающая зарядку, что необходимо для устранения...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Datum:2009
Hauptverfasser: Кузин, А.А., Заблоцкий, А.В., Батурин, А.С., Лапшин, Д.А., Мелентьев, П.Н., Балыкин, В.И.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2009
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76394
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Способ создания микролинз диаметром менее 50 нм для
 нанолитографии методами атомной проекционной оптики / А.А. Кузин, А.В. Заблоцкий, А.С. Батурин, Д.А. Лапшин, П.Н. Мелентьев, В.И. Балыкин // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2009. — Т. 7, № 1. — С. 163-168. — Бібліогр.: 2 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Ähnliche Einträge

Ähnliche Einträge