Cover Image

Способ создания микролинз диаметром менее 50 нм для нанолитографии методами атомной проекционной оптики

В данной статье предлагается способ создания массива микролинз, предназначенных для атомной проекционной нанолитографии, на мембране
 Si3N4 толщиной порядка 40 нм. На мембрану напыляется проводящая
 пленка толщиной порядка 30 нм, предотвращающая зарядку, что необходимо для устранения...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Date:2009
Main Authors: Кузин, А.А., Заблоцкий, А.В., Батурин, А.С., Лапшин, Д.А., Мелентьев, П.Н., Балыкин, В.И.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2009
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76394
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Способ создания микролинз диаметром менее 50 нм для
 нанолитографии методами атомной проекционной оптики / А.А. Кузин, А.В. Заблоцкий, А.С. Батурин, Д.А. Лапшин, П.Н. Мелентьев, В.И. Балыкин // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2009. — Т. 7, № 1. — С. 163-168. — Бібліогр.: 2 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Similar Items

Similar Items