Формування структурної неоднорідності приповерхневого шару плівок залізо-ітрієвого ґранату шляхом імплантації іонів Si⁺
Представлено результати досліджень приповерхневих шарів плівок ЗІҐ, імплантованих іонами Si⁺ дозою 5⋅10¹³ см⁻² в діапазоні енергій 100 – 150 кеВ. Математичне моделювання процесу іонноі імплантації показало, що утворення пар Френкеля та дефектів більш складного типу є рівноймовірним. Теоретично розра...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Datum: | 2011 |
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainian |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2011
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76408 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Формування структурної неоднорідності приповерхневого шару плівок залізо-ітрієвого ґранату шляхом імплантації іонів Si⁺ / Б.К. Остафійчук, О.З. Гарпуль, В.М. Пилипів, І.П. Яремій, В.В. Куровець // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 150–156. — Бібліогр.: 14 назв. — укр. |