Формування структурної неоднорідності приповерхневого шару плівок залізо-ітрієвого ґранату шляхом імплантації іонів Si⁺

• Veröffentlicht in: Физическая инженерия поверхности
• Datum: 2011
• Hauptverfasser: Остафійчук, Б.К., Гарпуль, О.З., Пилипів, В.М., Яремій, І.П., Куровець, В.В.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainisch
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2011
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76408
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Формування структурної неоднорідності приповерхневого шару плівок залізо-ітрієвого ґранату шляхом імплантації іонів Si⁺ / Б.К. Остафійчук, О.З. Гарпуль, В.М. Пилипів, І.П. Яремій, В.В. Куровець // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 150–156. — Бібліогр.: 14 назв. — укр.

Представлено результати досліджень приповерхневих шарів плівок ЗІҐ, імплантованих іонами Si⁺ дозою 5⋅10¹³ см⁻² в діапазоні енергій 100 – 150 кеВ. Математичне моделювання процесу іонноі імплантації показало, що утворення пар Френкеля та дефектів більш складного типу є рівноймовірним. Теоретично розра...