Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур

Приведены результаты исследования механизмов токопереноса кремниевой фотодиодной Au-nSi-Al-структуры в зависимости от общего напряжения и падающих на каждом переходе напряжений. Экспериментально установлено, что различие свойств встречновключенных потенциальных барьеров приводит к изменению полевых...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2011
Main Authors: Абдулхаев, О.А., Асанова, Г.О., Ёдгорова, Д.М., Якубов, Э.Н., Каримов, А.В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2011
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76898
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Д.М. Ёдгорова, Э.Н. Якубов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 3. — С. 262–268. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1859509848809406464
author Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Ёдгорова, Д.М.
Якубов, Э.Н.
Каримов, А.В.
author_facet Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Ёдгорова, Д.М.
Якубов, Э.Н.
Каримов, А.В.
citation_txt Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Д.М. Ёдгорова, Э.Н. Якубов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 3. — С. 262–268. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Физическая инженерия поверхности
description Приведены результаты исследования механизмов токопереноса кремниевой фотодиодной Au-nSi-Al-структуры в зависимости от общего напряжения и падающих на каждом переходе напряжений. Экспериментально установлено, что различие свойств встречновключенных потенциальных барьеров приводит к изменению полевых и емкостных зависимостей при смене полярности рабочего напряжения, а сравнительно высокое удельное сопротивление базовой области (1000 Ом·см) приводит к генерационному механизму токопереноса в запираемом переходе и термоэлектронному механизму токопереноса в прямосмещаемом переходе. Полученные результаты являются полезными при оптимизации фотоэлектрических характеристик кремниевых фотодиодных структур с переходом металл-полупроводник. Наведено результати дослідження механізмів струмопереноса кремнієвої фотодіодної Au-nSі-Al-структуры залежно від загальної напруги й падаючих на кожному переході напруг. Експериментально встановлено, що розходження властивостей зустрічноввімкнутих потенційних бар’єрів призводить до зміни польових і ємнісних залежностей при зміні полярності робочої напруги, а порівняно високий питомий опір базової області (1000 Ом·см) призводить до генераційному механізму струмопереноса в замикаємому переході і термоелектронному механізмі струмопереносі в прямозміщенному переході. Отримані результати є корисними при оптимізації фотоелектричних характеристик кремнієвих фотодіодних структур з переходом метал-напівпровідник. The results of research the charge transport mechanisms of silicon photodiode Au-nSi-Al-structure depending on the general voltage and voltages which are falling on each junction. Experimentally established that the difference in the properties of oppositely included potential barriers leads to a change in the field and capacitive dependencies by changing the polarity of the bias voltage, and the relatively high resistivity of base region (1000 Om·cm) results in the generation mechanism of charge transport in a reverse biased junction and the thermoelectronic mechanism of charge transport in directly biased junction. The results are useful in optimizing of the photoelectric characteristics of silicon photodiode structures with a metal-semiconductor interface.
first_indexed 2025-11-25T15:19:35Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-76898
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1999-8074
language Russian
last_indexed 2025-11-25T15:19:35Z
publishDate 2011
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
record_format dspace
spelling Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Ёдгорова, Д.М.
Якубов, Э.Н.
Каримов, А.В.
2015-02-13T06:45:52Z
2015-02-13T06:45:52Z
2011
Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Д.М. Ёдгорова, Э.Н. Якубов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 3. — С. 262–268. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76898
621.383.52:535.243
Приведены результаты исследования механизмов токопереноса кремниевой фотодиодной Au-nSi-Al-структуры в зависимости от общего напряжения и падающих на каждом переходе напряжений. Экспериментально установлено, что различие свойств встречновключенных потенциальных барьеров приводит к изменению полевых и емкостных зависимостей при смене полярности рабочего напряжения, а сравнительно высокое удельное сопротивление базовой области (1000 Ом·см) приводит к генерационному механизму токопереноса в запираемом переходе и термоэлектронному механизму токопереноса в прямосмещаемом переходе. Полученные результаты являются полезными при оптимизации фотоэлектрических характеристик кремниевых фотодиодных структур с переходом металл-полупроводник.
Наведено результати дослідження механізмів струмопереноса кремнієвої фотодіодної Au-nSі-Al-структуры залежно від загальної напруги й падаючих на кожному переході напруг. Експериментально встановлено, що розходження властивостей зустрічноввімкнутих потенційних бар’єрів призводить до зміни польових і ємнісних залежностей при зміні полярності робочої напруги, а порівняно високий питомий опір базової області (1000 Ом·см) призводить до генераційному механізму струмопереноса в замикаємому переході і термоелектронному механізмі струмопереносі в прямозміщенному переході. Отримані результати є корисними при оптимізації фотоелектричних характеристик кремнієвих фотодіодних структур з переходом метал-напівпровідник.
The results of research the charge transport mechanisms of silicon photodiode Au-nSi-Al-structure depending on the general voltage and voltages which are falling on each junction. Experimentally established that the difference in the properties of oppositely included potential barriers leads to a change in the field and capacitive dependencies by changing the polarity of the bias voltage, and the relatively high resistivity of base region (1000 Om·cm) results in the generation mechanism of charge transport in a reverse biased junction and the thermoelectronic mechanism of charge transport in directly biased junction. The results are useful in optimizing of the photoelectric characteristics of silicon photodiode structures with a metal-semiconductor interface.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур
Article
published earlier
spellingShingle Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур
Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Ёдгорова, Д.М.
Якубов, Э.Н.
Каримов, А.В.
title Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур
title_full Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур
title_fullStr Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур
title_full_unstemmed Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур
title_short Исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур
title_sort исследование влияния потенциальных барьеров на механизмы токопереноса во встречновключенных двухбарьерных кремниевых структур
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76898
work_keys_str_mv AT abdulhaevoa issledovanievliâniâpotencialʹnyhbarʹerovnamehanizmytokoperenosavovstrečnovklûčennyhdvuhbarʹernyhkremnievyhstruktur
AT asanovago issledovanievliâniâpotencialʹnyhbarʹerovnamehanizmytokoperenosavovstrečnovklûčennyhdvuhbarʹernyhkremnievyhstruktur
AT edgorovadm issledovanievliâniâpotencialʹnyhbarʹerovnamehanizmytokoperenosavovstrečnovklûčennyhdvuhbarʹernyhkremnievyhstruktur
AT âkubovén issledovanievliâniâpotencialʹnyhbarʹerovnamehanizmytokoperenosavovstrečnovklûčennyhdvuhbarʹernyhkremnievyhstruktur
AT karimovav issledovanievliâniâpotencialʹnyhbarʹerovnamehanizmytokoperenosavovstrečnovklûčennyhdvuhbarʹernyhkremnievyhstruktur