Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы

Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы

Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Date:2008
Main Authors: Шулаев, В.М., Андреев, А.А., Столбовой, В.А., Прибытков, Г.А., Гурских, А.В., Коростелева, Е.Н., Коржова, В.В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2008
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7871
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.А. Столбовой, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, Е.Н. Коростелева, В.В. Коржова // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 105-113. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-7871
record_format dspace
spelling Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Столбовой, В.А.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Коростелева, Е.Н.
Коржова, В.В.
2010-04-19T14:51:56Z
2010-04-19T14:51:56Z
2008
Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.А. Столбовой, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, Е.Н. Коростелева, В.В. Коржова // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 105-113. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7871
620.178.1: 539.533
Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в кубической фазе нитрида титана. Вакуумнодуговому испарению подвергались спеченные порошковые TiSi катоды. Материал двухфазного катода состоял из твердого раствора замещения кремния в титане α-Ti(Si) и силицида титана Ti5Si3. Обнаружено, что концентрация кремния в синтезируемых Ti-Si-N покрытиях и эмитируемых макрочастицах значительно ниже содержания кремния в TiSi катодах. Этот эффект связан с неоднородной эрозией катодным пятном вакуумной дуги материала катода. Интенсивная генерация плазменных струй и эмиссия макрочастиц происходят преимущественно на зернах α-Ti(Si) фазы.
Представлені результати експериментів із синтезу Ti-Si-N покриттів при їх осадженні з багатокомпонентної плазми вакуумно-дугового розряду на підкладинку з нержавіючої сталі й мідної фольги. Отримані наноструктурні Tі-Sі-N покриття є метастабільними пересиченими твердими розчинами кремнію в кубічній фазі нітриду титану. Вакуумно-дуговому випаруванню піддавалися спечені порошкові TіSі катоди. Матеріал двох-фазового катода складався із твердого розчину заміщення кремнію в титані α-Tі(Sі) і силіциду титану Tі5Sі3. Виявлено, що концентрація крем-нію в синтезованих Ті-Sі-N покриттях і емітованих макрочастинках значно нижче змісту кремнію в TіSі катодах. Цей ефект пов’язаний з неоднорідною ерозією катодної плями вакуумної дуги матеріалу катода. Інтенсивна генерація плазмових струменів і емісія макрочасток відбуваються головним чином на зернах α-Tі(Sі) фази.
Presented are results of experiments on synthesis Ti-Si-N coatings deposited from multi-component vacuum-arc plasma at substrates of stainless steel and copper foils. Obtained nano-structure Ti-Si-N films are meta-stable oversaturated solution of silicon within cubic phase of titanium nitride. The sintered powder TiSi cathodes were subjected to vacuum-arc evaporation. Two-phase cathode was consisted of Si substitution solution within titanium α-Ti(Si) and titanium silicide Ti5Si3. It has been found that silicon concentration within synthesized Ti-Si-N coatings and emitted macro-particles is significantly less than silicon concentration in TiSi cathodes. This effect is due to non-uniform erosion of cathode material with cathode spot of vacuum arc. The intensive generation of plasma streams and macro-particles emission occurs presumably on the α-Ti(Si) – phase grains.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
Вакуумно-дугове осадження наноструктурних Tі-Si-N покриттів з багатокомпонентної плазми
Vacuum-arc deposition of nanostructure Ti-Si-N coatings from multi-component plasma
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
spellingShingle Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Столбовой, В.А.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Коростелева, Е.Н.
Коржова, В.В.
title_short Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_full Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_fullStr Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_full_unstemmed Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_sort вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных ti-si-n покрытий из многокомпонентной плазмы
author Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Столбовой, В.А.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Коростелева, Е.Н.
Коржова, В.В.
author_facet Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Столбовой, В.А.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Коростелева, Е.Н.
Коржова, В.В.
publishDate 2008
language Russian
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Вакуумно-дугове осадження наноструктурних Tі-Si-N покриттів з багатокомпонентної плазми
Vacuum-arc deposition of nanostructure Ti-Si-N coatings from multi-component plasma
description Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в кубической фазе нитрида титана. Вакуумнодуговому испарению подвергались спеченные порошковые TiSi катоды. Материал двухфазного катода состоял из твердого раствора замещения кремния в титане α-Ti(Si) и силицида титана Ti5Si3. Обнаружено, что концентрация кремния в синтезируемых Ti-Si-N покрытиях и эмитируемых макрочастицах значительно ниже содержания кремния в TiSi катодах. Этот эффект связан с неоднородной эрозией катодным пятном вакуумной дуги материала катода. Интенсивная генерация плазменных струй и эмиссия макрочастиц происходят преимущественно на зернах α-Ti(Si) фазы. Представлені результати експериментів із синтезу Ti-Si-N покриттів при їх осадженні з багатокомпонентної плазми вакуумно-дугового розряду на підкладинку з нержавіючої сталі й мідної фольги. Отримані наноструктурні Tі-Sі-N покриття є метастабільними пересиченими твердими розчинами кремнію в кубічній фазі нітриду титану. Вакуумно-дуговому випаруванню піддавалися спечені порошкові TіSі катоди. Матеріал двох-фазового катода складався із твердого розчину заміщення кремнію в титані α-Tі(Sі) і силіциду титану Tі5Sі3. Виявлено, що концентрація крем-нію в синтезованих Ті-Sі-N покриттях і емітованих макрочастинках значно нижче змісту кремнію в TіSі катодах. Цей ефект пов’язаний з неоднорідною ерозією катодної плями вакуумної дуги матеріалу катода. Інтенсивна генерація плазмових струменів і емісія макрочасток відбуваються головним чином на зернах α-Tі(Sі) фази. Presented are results of experiments on synthesis Ti-Si-N coatings deposited from multi-component vacuum-arc plasma at substrates of stainless steel and copper foils. Obtained nano-structure Ti-Si-N films are meta-stable oversaturated solution of silicon within cubic phase of titanium nitride. The sintered powder TiSi cathodes were subjected to vacuum-arc evaporation. Two-phase cathode was consisted of Si substitution solution within titanium α-Ti(Si) and titanium silicide Ti5Si3. It has been found that silicon concentration within synthesized Ti-Si-N coatings and emitted macro-particles is significantly less than silicon concentration in TiSi cathodes. This effect is due to non-uniform erosion of cathode material with cathode spot of vacuum arc. The intensive generation of plasma streams and macro-particles emission occurs presumably on the α-Ti(Si) – phase grains.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7871
citation_txt Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.А. Столбовой, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, Е.Н. Коростелева, В.В. Коржова // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 105-113. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT šulaevvm vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytiiizmnogokomponentnoiplazmy
AT andreevaa vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytiiizmnogokomponentnoiplazmy
AT stolbovoiva vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytiiizmnogokomponentnoiplazmy
AT pribytkovga vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytiiizmnogokomponentnoiplazmy
AT gurskihav vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytiiizmnogokomponentnoiplazmy
AT korostelevaen vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytiiizmnogokomponentnoiplazmy
AT koržovavv vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytiiizmnogokomponentnoiplazmy
AT šulaevvm vakuumnodugoveosadžennânanostrukturnihtísinpokrittívzbagatokomponentnoíplazmi
AT andreevaa vakuumnodugoveosadžennânanostrukturnihtísinpokrittívzbagatokomponentnoíplazmi
AT stolbovoiva vakuumnodugoveosadžennânanostrukturnihtísinpokrittívzbagatokomponentnoíplazmi
AT pribytkovga vakuumnodugoveosadžennânanostrukturnihtísinpokrittívzbagatokomponentnoíplazmi
AT gurskihav vakuumnodugoveosadžennânanostrukturnihtísinpokrittívzbagatokomponentnoíplazmi
AT korostelevaen vakuumnodugoveosadžennânanostrukturnihtísinpokrittívzbagatokomponentnoíplazmi
AT koržovavv vakuumnodugoveosadžennânanostrukturnihtísinpokrittívzbagatokomponentnoíplazmi
AT šulaevvm vacuumarcdepositionofnanostructuretisincoatingsfrommulticomponentplasma
AT andreevaa vacuumarcdepositionofnanostructuretisincoatingsfrommulticomponentplasma
AT stolbovoiva vacuumarcdepositionofnanostructuretisincoatingsfrommulticomponentplasma
AT pribytkovga vacuumarcdepositionofnanostructuretisincoatingsfrommulticomponentplasma
AT gurskihav vacuumarcdepositionofnanostructuretisincoatingsfrommulticomponentplasma
AT korostelevaen vacuumarcdepositionofnanostructuretisincoatingsfrommulticomponentplasma
AT koržovavv vacuumarcdepositionofnanostructuretisincoatingsfrommulticomponentplasma
first_indexed 2025-12-07T20:40:00Z
last_indexed 2025-12-07T20:40:00Z
_version_ 1850883441357225984

Similar Items