The low energy ribbon ion beam source and transport system
The ribbon ion beam can be used in the commercial ion implanters in order to enlarge the beam current. The
 Bernas type ion source and periodical system of electrostatic lenses (electrostatic undulator) are proposed for high
 intensity ion implanter design. The ribbon ion source and...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2006 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78872 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | The low energy ribbon ion beam source and transport system / E.S. Masunov, S.M. Polozov, T.V. Kulevoy, V.I. Pershin // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 2. — С. 123-125. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |