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The low energy ribbon ion beam source and transport system

The ribbon ion beam can be used in the commercial ion implanters in order to enlarge the beam current. The Bernas type ion source and periodical system of electrostatic lenses (electrostatic undulator) are proposed for high intensity ion implanter design. The ribbon ion source and transport system...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2006
Hauptverfasser:	Masunov, E.S., Polozov, S.M., Kulevoy, T.V., Pershin, V.I.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Schlagworte:	Линейные ускорители заряженных частиц
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78872
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	The low energy ribbon ion beam source and transport system / E.S. Masunov, S.M. Polozov, T.V. Kulevoy, V.I. Pershin // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 2. — С. 123-125. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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