Large-area surface wave plasma source
A surface wave plasma source for the production of a large-diameter, high electron density and low electron temperature plasma at low pressure without using a magnetic field for plasma processing and thin film preparation are. The DC or RF voltage with the frequency of 13.56 MHz can supply the sourc...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2002 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79286 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Large-area surface wave plasma source / N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, A.V. Gapon, A.Y. Kashaba, K.N. Sereda, A.Ph. Tseluyko, N.N. Yunakov // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 118-120. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineSchreiben Sie den ersten Kommentar!