Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем

У роботі приводяться результати дослідження параметрів тліючого розряду, стабілізованого магнітним полем,
 призначеного для синтезу алмазних покриттів з газової фази при використанні різних робочих газів. Показано, що в
 таких розрядах катодне падіння потенціалу досягає 700 В, що п...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2002
Hauptverfasser: Пашнев, В.К., Стрельницкий, В.Е., Опалев, О.А., Грицина, В.И., Выровец, И.И., Бизюков, Ю.А., Крышталь, П.Г., Колупаева, З.И.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80157
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем / В.К. Пашнев, В.Е. Стрельницкий, О.А. Опалев, В.И. Грицина, И.И. Выровец, Ю.А. Бизюков, П.Г. Крышталь, З.И. Колупаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 6. — С. 134-138. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862589486662156288
author Пашнев, В.К.
Стрельницкий, В.Е.
Опалев, О.А.
Грицина, В.И.
Выровец, И.И.
Бизюков, Ю.А.
Крышталь, П.Г.
Колупаева, З.И.
author_facet Пашнев, В.К.
Стрельницкий, В.Е.
Опалев, О.А.
Грицина, В.И.
Выровец, И.И.
Бизюков, Ю.А.
Крышталь, П.Г.
Колупаева, З.И.
citation_txt Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем / В.К. Пашнев, В.Е. Стрельницкий, О.А. Опалев, В.И. Грицина, И.И. Выровец, Ю.А. Бизюков, П.Г. Крышталь, З.И. Колупаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 6. — С. 134-138. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description У роботі приводяться результати дослідження параметрів тліючого розряду, стабілізованого магнітним полем,
 призначеного для синтезу алмазних покриттів з газової фази при використанні різних робочих газів. Показано, що в
 таких розрядах катодне падіння потенціалу досягає 700 В, що помітно перевищує характерні катодні падіння
 потенціалів у розрядах без магнітного поля. Додавання аргону в робочу газову суміш знижує катодне падіння
 потенціалу до 100 В. Показано так само, що алмазні покриття, одержувані в суміші робочого газу H₂+Ar+CH₄, мають
 розмір алмазного зерна 40…50 нм, а в суміші робочого газу H₂+CH₄ розмір зерна досягає 20 мкм за інших рівних умов
 синтезу алмазного покриття. В работе приводятся результаты исследования параметров тлеющего разряда, стабилизированного магнитным полем, предназначенного для синтеза алмазных покрытий из газовой фазы при использовании различных рабочих газов.
 Показано, что в таких разрядах катодное падение потенциала достигает 700 В, что заметно превышает характерные катодные падения потенциалов в разрядах без магнитного поля. Добавление аргона в рабочую газовую смесь снижает катодное падение потенциала до 100 В. Показано так же, что алмазные покрытия, получаемые в смеси рабочего газа
 H₂+Ar+CH₄, имеют размер алмазного зерна 40…50 нм, а в смеси рабочего газа H₂+CH₄ размер зерна достигает 20 мкм
 при прочих равных условиях синтеза алмазного покрытия. Investigation of parameters of the glow discharge stabilized by magnetic field in different gas mixtures under conditions of
 diamond films synthesis was performed. It was shown that in such discharges the cathode voltage drop reaches 700 V, that significantly
 exceeds the typical cathode voltage drop in the glow discharge without magnetic field. Addition of argon into the
 working gas mixture reduces the cathode voltage drop up to 100 V. Moreover it was shown that the grain size in diamond coatings
 synthesized in H₂+Ar+CH₄ gas mixture is about 40…50 nm, while for H₂+CH₄ working gas mixture the grain size achieves
 20 µm at the same coating deposition conditions.
first_indexed 2025-11-27T02:57:23Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-80157
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language Russian
last_indexed 2025-11-27T02:57:23Z
publishDate 2002
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Пашнев, В.К.
Стрельницкий, В.Е.
Опалев, О.А.
Грицина, В.И.
Выровец, И.И.
Бизюков, Ю.А.
Крышталь, П.Г.
Колупаева, З.И.
2015-04-12T16:15:11Z
2015-04-12T16:15:11Z
2002
Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем / В.К. Пашнев, В.Е. Стрельницкий, О.А. Опалев, В.И. Грицина, И.И. Выровец, Ю.А. Бизюков, П.Г. Крышталь, З.И. Колупаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 6. — С. 134-138. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80157
537.525:539.23:679.826
У роботі приводяться результати дослідження параметрів тліючого розряду, стабілізованого магнітним полем,
 призначеного для синтезу алмазних покриттів з газової фази при використанні різних робочих газів. Показано, що в
 таких розрядах катодне падіння потенціалу досягає 700 В, що помітно перевищує характерні катодні падіння
 потенціалів у розрядах без магнітного поля. Додавання аргону в робочу газову суміш знижує катодне падіння
 потенціалу до 100 В. Показано так само, що алмазні покриття, одержувані в суміші робочого газу H₂+Ar+CH₄, мають
 розмір алмазного зерна 40…50 нм, а в суміші робочого газу H₂+CH₄ розмір зерна досягає 20 мкм за інших рівних умов
 синтезу алмазного покриття.
В работе приводятся результаты исследования параметров тлеющего разряда, стабилизированного магнитным полем, предназначенного для синтеза алмазных покрытий из газовой фазы при использовании различных рабочих газов.
 Показано, что в таких разрядах катодное падение потенциала достигает 700 В, что заметно превышает характерные катодные падения потенциалов в разрядах без магнитного поля. Добавление аргона в рабочую газовую смесь снижает катодное падение потенциала до 100 В. Показано так же, что алмазные покрытия, получаемые в смеси рабочего газа
 H₂+Ar+CH₄, имеют размер алмазного зерна 40…50 нм, а в смеси рабочего газа H₂+CH₄ размер зерна достигает 20 мкм
 при прочих равных условиях синтеза алмазного покрытия.
Investigation of parameters of the glow discharge stabilized by magnetic field in different gas mixtures under conditions of
 diamond films synthesis was performed. It was shown that in such discharges the cathode voltage drop reaches 700 V, that significantly
 exceeds the typical cathode voltage drop in the glow discharge without magnetic field. Addition of argon into the
 working gas mixture reduces the cathode voltage drop up to 100 V. Moreover it was shown that the grain size in diamond coatings
 synthesized in H₂+Ar+CH₄ gas mixture is about 40…50 nm, while for H₂+CH₄ working gas mixture the grain size achieves
 20 µm at the same coating deposition conditions.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем
Article
published earlier
spellingShingle Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем
Пашнев, В.К.
Стрельницкий, В.Е.
Опалев, О.А.
Грицина, В.И.
Выровец, И.И.
Бизюков, Ю.А.
Крышталь, П.Г.
Колупаева, З.И.
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем
title_full Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем
title_fullStr Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем
title_full_unstemmed Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем
title_short Влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем
title_sort влияние добавки аргона в водородометановую смесь на синтез алмазоподобного покрытия в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80157
work_keys_str_mv AT pašnevvk vliâniedobavkiargonavvodorodometanovuûsmesʹnasintezalmazopodobnogopokrytiâvtleûŝemrazrâdestabilizirovannommagnitnympolem
AT strelʹnickiive vliâniedobavkiargonavvodorodometanovuûsmesʹnasintezalmazopodobnogopokrytiâvtleûŝemrazrâdestabilizirovannommagnitnympolem
AT opalevoa vliâniedobavkiargonavvodorodometanovuûsmesʹnasintezalmazopodobnogopokrytiâvtleûŝemrazrâdestabilizirovannommagnitnympolem
AT gricinavi vliâniedobavkiargonavvodorodometanovuûsmesʹnasintezalmazopodobnogopokrytiâvtleûŝemrazrâdestabilizirovannommagnitnympolem
AT vyrovecii vliâniedobavkiargonavvodorodometanovuûsmesʹnasintezalmazopodobnogopokrytiâvtleûŝemrazrâdestabilizirovannommagnitnympolem
AT bizûkovûa vliâniedobavkiargonavvodorodometanovuûsmesʹnasintezalmazopodobnogopokrytiâvtleûŝemrazrâdestabilizirovannommagnitnympolem
AT kryštalʹpg vliâniedobavkiargonavvodorodometanovuûsmesʹnasintezalmazopodobnogopokrytiâvtleûŝemrazrâdestabilizirovannommagnitnympolem
AT kolupaevazi vliâniedobavkiargonavvodorodometanovuûsmesʹnasintezalmazopodobnogopokrytiâvtleûŝemrazrâdestabilizirovannommagnitnympolem