Magnetron with a concave hemispherical cathode
A magnetron set up with a hemispherical concave cathode has been worked out for the first time. The cathode
 center of curvature was registered with the sputtered surface. An aluminum nitride film was sputtered by this magnetron
 in the pulse regime. The pulse duration was about 2 ms...
Збережено в:
| Опубліковано в: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2009 |
| ISSN: | 1562-6016 |
| Автори: | Stetsenko, B.V., Shchurenko, A.I., Zavyalov, Yu.G. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2009
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88319 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Magnetron with a concave hemispherical cathode / B.V. Stetsenko, A.I. Shchurenko, Yu.G. Zavyalov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 134-135. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
On relation between the autoemitter top field, anode voltage and cathode geometry
за авторством: Stetsenko, B.V., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Stetsenko, B.V., та інші
Опубліковано: (2009)
Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)
Increasing of mass transfer efficiency at magnetron deposition of metal coating
за авторством: Chunadra, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Chunadra, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)
Probe measurements of parameters of dense gasmetallic plasma in the inhomogeneous magnetic field of a planar magnetron discharge
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2018)
Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2018)
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
Influence of negative ions on atomic oxygen production in a hollow cathode discharge in O₂/Ar mixture
за авторством: Lavrukevich, Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lavrukevich, Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
Gas breakdown in DC electric field in a discharge tube with flat and conical cathodes
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2014)
Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Erosion of vacuum-arc TiN coatings in plasma of stationary magnetron-type discharges
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2011)
Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2015)
Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)
Hydrogen injector based on penning discharge with metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2018)
Child-Langmuir law for cathode sheath of glow discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2017)
Structure and modes of dc glow discharge in nitrogen with hollow cathode or anode
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2018)
Influence of hydrogen supply on emissive characteristics of pig with metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2014)
Current cathode spots in the glow discharge normal regime as a stationary dissipative structure: macroscopic parameters
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2011)
Anodic electron sheaths in low pressure hollow cathode discharge with large size anode
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
The influence of plasma treatment of different cathode materials on current-voltage characteristics of mirror discharge in air
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2013)
Longitudinal extraction of H⁻ ions from Penning discharge with metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2017)
Excitation of self-sustained secondary emission by gas discharge and hollow beam generation in magnetron injection gun
за авторством: Cherenshchykov, S.A., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Cherenshchykov, S.A., та інші
Опубліковано: (2009)
The effect of unintentional oxygen incorporation into Cr-CrN-DLC coatings deposited by MePIIID method using filtered cathodic vacuum arc carbon and metal plasma
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2010)
Calculations for parameters of a stationary reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Determining the rotational velocity of gas-metal multicomponent plasma in a reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)
Radiation of multicomponent gas-metal plasma of a pulsed reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)
Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2011)
Investigation on the possibility of determining plasma parameters by the method of low-frequency diagnostics
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2014)
Measurement of the plasma density in two modes of pulsed discharge burning in the penning cell
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Propagation of multicomponent plasma oscillations along the magnetic field in the pulsed reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2012)
Electron energy probability function and dust charge in the temporal afterglow of a plasma with large dust density
за авторством: Denysenko, I.B., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Denysenko, I.B., та інші
Опубліковано: (2018)
Modified helicon discharge excited by a linear inductive antenna
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2014)
Investigation of gas discharge burn conditions in a Penning geometry in gradient magnetic fields
за авторством: Ozerov, A.N., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Ozerov, A.N., та інші
Опубліковано: (2017)
Dynamics of dust particles in a plasma jet
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
Computer simulation of dust transport phenomena in a RF discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2010)
Electrolysite-plasma smoothing of relief on targets modified by a high-current relativistic electron beam
за авторством: Starovoytov, R.I., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Starovoytov, R.I., та інші
Опубліковано: (2018)
Theoretical and experimental investigation of the plasma source with argon RF barrier discharge at atmospheric pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)
Investigations on the parameters of multicomponent gas-metal plasma formed in the mixed molecular gases
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Nitriding, oxidation and carburization of titanium and steels in non-self maintained gaseous discharge
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2012)
Схожі ресурси
-
On relation between the autoemitter top field, anode voltage and cathode geometry
за авторством: Stetsenko, B.V., та інші
Опубліковано: (2009) -
Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017) -
Increasing of mass transfer efficiency at magnetron deposition of metal coating
за авторством: Chunadra, A.G., та інші
Опубліковано: (2015) -
Probe measurements of parameters of dense gasmetallic plasma in the inhomogeneous magnetic field of a planar magnetron discharge
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2018) -
Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)