Зображення обкладинки

Ion beam system for nanotrimming of functional microelectronics layers

This paper concerns with investigation of the trimming process which uses ion beam etching for high-precision adjustment of the thickness of functional microelectronics layers. The layer deposited on the substrate is etched by scanning focused ion beam; its position and power is re...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в:	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2011
ISSN:	1562-6016
Автори:	Bizyukov, A.A., Bizyukov, I.A., Girka, O.I., Sereda, K.N., Sleptsov, V.V., Gutkin, M., Mishin, S.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2011
Теми:	Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/90892
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Ion beam system for nanotrimming of functional microelectronics layers / A.A. Bizyukov, I.A. Bizyukov, O.I. Girka, K.N. Sereda, V.V. Sleptsov, M. Gutkin, S. Mishin // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 110-112. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Phase states of macroparticles under interaction of keV ion beam with dusty plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Charging processes of metal macroparticles in the low-temperature plasma at presence of high-energy electron beam
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2011)

Particle charging in beam-plasma systems
за авторством: Bizyukov, А.А., та інші
Опубліковано: (2013)

High-current pulsed operation modes of the planar MSS with magnetically insulated anode without transition to the arc discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)

Capture and transport of macroparticles in curved plasma duct at low magnetic field in the presence of an electron beam
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2014)

Increasing of mass transfer efficiency at magnetron deposition of metal coating
за авторством: Chunadra, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)

Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Decay of liquid metallic macroparticles in plasma-beam systems due to rayleigh instability
за авторством: Bizyukov, A.A, та інші
Опубліковано: (2017)

Features of electron beam evaporation under surface electron beam formation
за авторством: Mysiura, I.N., та інші
Опубліковано: (2014)

Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2018)

Effect of the parameters of a gas-discharge plasma on the equilibrium temperature and floating potential of macroparticle
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)

The size effect and x-ray fluorescenc spectra of metallic nanoparticles
за авторством: Kolyada, Yu.E., та інші
Опубліковано: (2017)

Longitudinal extraction of H⁻ ions from Penning discharge with metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2017)

The capacitive component of double layer current in plasma
за авторством: Hrechko, Ya.O., та інші
Опубліковано: (2017)

Effect of the external magnetic field on the dynamics and power of the self-sustained plasma-beam discharge
за авторством: Hrechko, Ya.O., та інші
Опубліковано: (2018)

Mass-separation of impurities in the ion beam systems with reversed magnetic beam focusing
за авторством: Girka, O.I., та інші
Опубліковано: (2012)

About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)

Influence of increased sliding speed on the structure and properties of piston rings with ion-plasma coating
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2018)

Intrinsic stresses in multi-component nitride coatings produced by plasma immersion ion implantation
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)

Behavior of molybdenum target in condition of irradiation by the high current relativistic electron beam
за авторством: Donets, S.E., та інші
Опубліковано: (2018)

The forming system simulation for reactive gas ion source with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Martynenko, P.A.
Опубліковано: (2017)

Excitation of self-sustained secondary emission by gas discharge and hollow beam generation in magnetron injection gun
за авторством: Cherenshchykov, S.A., та інші
Опубліковано: (2009)

Ion energy distribution and basic characteristics of plasma flows of nonself-sustained arc discharge
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)

Axial energy spread measurements of a 27.12 MHz multicusp ion source
за авторством: Voznyi, V.I., та інші
Опубліковано: (2009)

Electrolysite-plasma smoothing of relief on targets modified by a high-current relativistic electron beam
за авторством: Starovoytov, R.I., та інші
Опубліковано: (2018)

Influence of negative ions on atomic oxygen production in a hollow cathode discharge in O₂/Ar mixture
за авторством: Lavrukevich, Yu., та інші
Опубліковано: (2017)

Metal micro-detectors: development of “transparent” position sensitive detector for beam diagnostics
за авторством: O. Fedorovich, O. Kovalchuk, V. Pugatch, O. Okhrimenko, D. Storozhyk, V. Kyva
Опубліковано: (2012)

Dynamics and directions of extreme ultraviolet radiation from plasma of the high-current pulse diode
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2009)

Hydrogen injector based on penning discharge with metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2018)

Probe measurements of parameters of dense gasmetallic plasma in the inhomogeneous magnetic field of a planar magnetron discharge
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2018)

Influence of hydrogen supply on emissive characteristics of pig with metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2014)

Influence of plasma nucleus form on radiation orientation in high-current pulse plasma diode
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2010)

Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2011)

Microplasma discharge striation in the PDP cell
за авторством: Kelnyk, O.I., та інші
Опубліковано: (2011)

Current waveforms for pulse microdischarge inside dielectric cell
за авторством: Kelnyk, O.I., та інші
Опубліковано: (2010)

Effect of quasi-hydrostatic extrusion on microhardness in CuCrZr alloy
за авторством: Belyaeva, A.I., та інші
Опубліковано: (2015)

Plasma parameters estimation in the non-self-sustained gas discharge with hollow anode
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2018)

Modeling of gas diffusion into metals on the example of titanium nitriding in gas discharge plasmas
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2015)