Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source

Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source

In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50 eV compared to...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физическая инженерия поверхности
Дата:2007
Автори: Vozniy, O.V., Yeom, G.Y., Kropotov, A.Yu.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2007
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98816
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98816
record_format dspace
spelling Vozniy, O.V.
Yeom, G.Y.
Kropotov, A.Yu.
2016-04-17T21:58:53Z
2016-04-17T21:58:53Z
2007
Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98816
539.198
In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50 eV compared to the preset value. The ion energy peak position was found to be more affected by pressure at higher extraction voltages on the acceleration grid.
У даній роботі обговорюється відхилення функції розподілу по енергіях прискорених іонів від установленого значення в джерелі на основе ВЧІ розряду. Аномальне збільшення потенціала плазми при значенні прискорючого напруження 400 В викликало зсув енергії пучка убік великих значень на величину до 50 еВ. При цьому було виявлено, що положення максимуму функції розподілу залежило від тиску в більшому ступені при більш високих значеннях прискорючого напруження.
В данной работе обсуждается отклонение функции распределения по энергиямускоренных ионов от установленного значения в источнике на основе ВЧИ разряда. Аномальное увеличение потенциала плазмы при значении ускоряющего напряжения 400 В вызывало смещение энергии пучка в сторону больших значений на величину до 50 эВ. При этом было обнаружено, что положение максимума функции распределения зависело от давления в большей степени при более высоких значениях ускоряющего напряжения.
en
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
Вплив плазменного потенціалу на значення функції розподілу іонів по енергіях у джерелі на основі ВЧІ розряду
Влияние плазменного потенциала на значение функции распределения ионов по энергиям в источнике на основе ВЧИ разряда
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
spellingShingle Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
Vozniy, O.V.
Yeom, G.Y.
Kropotov, A.Yu.
title_short Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
title_full Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
title_fullStr Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
title_full_unstemmed Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
title_sort plasma potential influence on ion energy distribution function in icp source
author Vozniy, O.V.
Yeom, G.Y.
Kropotov, A.Yu.
author_facet Vozniy, O.V.
Yeom, G.Y.
Kropotov, A.Yu.
publishDate 2007
language English
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Вплив плазменного потенціалу на значення функції розподілу іонів по енергіях у джерелі на основі ВЧІ розряду
Влияние плазменного потенциала на значение функции распределения ионов по энергиям в источнике на основе ВЧИ разряда
description In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50 eV compared to the preset value. The ion energy peak position was found to be more affected by pressure at higher extraction voltages on the acceleration grid. У даній роботі обговорюється відхилення функції розподілу по енергіях прискорених іонів від установленого значення в джерелі на основе ВЧІ розряду. Аномальне збільшення потенціала плазми при значенні прискорючого напруження 400 В викликало зсув енергії пучка убік великих значень на величину до 50 еВ. При цьому було виявлено, що положення максимуму функції розподілу залежило від тиску в більшому ступені при більш високих значеннях прискорючого напруження. В данной работе обсуждается отклонение функции распределения по энергиямускоренных ионов от установленного значения в источнике на основе ВЧИ разряда. Аномальное увеличение потенциала плазмы при значении ускоряющего напряжения 400 В вызывало смещение энергии пучка в сторону больших значений на величину до 50 эВ. При этом было обнаружено, что положение максимума функции распределения зависело от давления в большей степени при более высоких значениях ускоряющего напряжения.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98816
citation_txt Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT vozniyov plasmapotentialinfluenceonionenergydistributionfunctioninicpsource
AT yeomgy plasmapotentialinfluenceonionenergydistributionfunctioninicpsource
AT kropotovayu plasmapotentialinfluenceonionenergydistributionfunctioninicpsource
AT vozniyov vplivplazmennogopotencíalunaznačennâfunkcíírozpodíluíonívpoenergíâhudžerelínaosnovívčírozrâdu
AT yeomgy vplivplazmennogopotencíalunaznačennâfunkcíírozpodíluíonívpoenergíâhudžerelínaosnovívčírozrâdu
AT kropotovayu vplivplazmennogopotencíalunaznačennâfunkcíírozpodíluíonívpoenergíâhudžerelínaosnovívčírozrâdu
AT vozniyov vliânieplazmennogopotencialanaznačeniefunkciiraspredeleniâionovpoénergiâmvistočnikenaosnovevčirazrâda
AT yeomgy vliânieplazmennogopotencialanaznačeniefunkciiraspredeleniâionovpoénergiâmvistočnikenaosnovevčirazrâda
AT kropotovayu vliânieplazmennogopotencialanaznačeniefunkciiraspredeleniâionovpoénergiâmvistočnikenaosnovevčirazrâda
first_indexed 2025-12-07T18:16:57Z
last_indexed 2025-12-07T18:16:57Z
_version_ 1850874441102262272

Схожі ресурси