Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined
 value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential
 increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Datum: | 2007 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2007
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98816 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862718836918190080 |
|---|---|
| author | Vozniy, O.V. Yeom, G.Y. Kropotov, A.Yu. |
| author_facet | Vozniy, O.V. Yeom, G.Y. Kropotov, A.Yu. |
| citation_txt | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined
value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential
increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50 eV compared to the
preset value. The ion energy peak position was found to be more affected by pressure at higher
extraction voltages on the acceleration grid.
У даній роботі обговорюється відхилення функції розподілу по енергіях прискорених іонів від
установленого значення в джерелі на основе ВЧІ
розряду. Аномальне збільшення потенціала плазми при значенні прискорючого напруження 400 В
викликало зсув енергії пучка убік великих значень
на величину до 50 еВ. При цьому було виявлено,
що положення максимуму функції розподілу
залежило від тиску в більшому ступені при більш
високих значеннях прискорючого напруження.
В данной работе обсуждается отклонение функции распределения по энергиямускоренных ионов
от установленного значения в источнике на основе ВЧИ разряда. Аномальное увеличение потенциала плазмы при значении ускоряющего напряжения 400 В вызывало смещение энергии
пучка в сторону больших значений на величину
до 50 эВ. При этом было обнаружено, что положение максимума функции распределения зависело от давления в большей степени при более
высоких значениях ускоряющего напряжения.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:16:57Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98816 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T18:16:57Z |
| publishDate | 2007 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Vozniy, O.V. Yeom, G.Y. Kropotov, A.Yu. 2016-04-17T21:58:53Z 2016-04-17T21:58:53Z 2007 Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98816 539.198 In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined
 value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential
 increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50 eV compared to the
 preset value. The ion energy peak position was found to be more affected by pressure at higher
 extraction voltages on the acceleration grid. У даній роботі обговорюється відхилення функції розподілу по енергіях прискорених іонів від
 установленого значення в джерелі на основе ВЧІ
 розряду. Аномальне збільшення потенціала плазми при значенні прискорючого напруження 400 В
 викликало зсув енергії пучка убік великих значень
 на величину до 50 еВ. При цьому було виявлено,
 що положення максимуму функції розподілу
 залежило від тиску в більшому ступені при більш
 високих значеннях прискорючого напруження. В данной работе обсуждается отклонение функции распределения по энергиямускоренных ионов
 от установленного значения в источнике на основе ВЧИ разряда. Аномальное увеличение потенциала плазмы при значении ускоряющего напряжения 400 В вызывало смещение энергии
 пучка в сторону больших значений на величину
 до 50 эВ. При этом было обнаружено, что положение максимума функции распределения зависело от давления в большей степени при более
 высоких значениях ускоряющего напряжения. en Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source Вплив плазменного потенціалу на значення функції розподілу іонів по енергіях у джерелі на основі ВЧІ розряду Влияние плазменного потенциала на значение функции распределения ионов по энергиям в источнике на основе ВЧИ разряда Article published earlier |
| spellingShingle | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source Vozniy, O.V. Yeom, G.Y. Kropotov, A.Yu. |
| title | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source |
| title_alt | Вплив плазменного потенціалу на значення функції розподілу іонів по енергіях у джерелі на основі ВЧІ розряду Влияние плазменного потенциала на значение функции распределения ионов по энергиям в источнике на основе ВЧИ разряда |
| title_full | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source |
| title_fullStr | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source |
| title_full_unstemmed | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source |
| title_short | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source |
| title_sort | plasma potential influence on ion energy distribution function in icp source |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98816 |
| work_keys_str_mv | AT vozniyov plasmapotentialinfluenceonionenergydistributionfunctioninicpsource AT yeomgy plasmapotentialinfluenceonionenergydistributionfunctioninicpsource AT kropotovayu plasmapotentialinfluenceonionenergydistributionfunctioninicpsource AT vozniyov vplivplazmennogopotencíalunaznačennâfunkcíírozpodíluíonívpoenergíâhudžerelínaosnovívčírozrâdu AT yeomgy vplivplazmennogopotencíalunaznačennâfunkcíírozpodíluíonívpoenergíâhudžerelínaosnovívčírozrâdu AT kropotovayu vplivplazmennogopotencíalunaznačennâfunkcíírozpodíluíonívpoenergíâhudžerelínaosnovívčírozrâdu AT vozniyov vliânieplazmennogopotencialanaznačeniefunkciiraspredeleniâionovpoénergiâmvistočnikenaosnovevčirazrâda AT yeomgy vliânieplazmennogopotencialanaznačeniefunkciiraspredeleniâionovpoénergiâmvistočnikenaosnovevčirazrâda AT kropotovayu vliânieplazmennogopotencialanaznačeniefunkciiraspredeleniâionovpoénergiâmvistočnikenaosnovevčirazrâda |