Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined
 value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential
 increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50...
Збережено в:
| Опубліковано в: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Дата: | 2007 |
| ISSN: | 1999-8074 |
| Автори: | Vozniy, O.V., Yeom, G.Y., Kropotov, A.Yu. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2007
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98816 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source
за авторством: O. V. Vozniy, та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: O. V. Vozniy, та інші
Опубліковано: (2007)
Spatial distributions of plasma parameters in ICP reactor
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2010)
Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Actinometric study of oxygen dissociation in ICP source
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)
Potential part of electric field of ICP coil
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
High number harmonic exitation by oscillators in periodic media and in periodic potential nonequilibrium electron distribution functions induced by fast ions in semiconductor plasma
за авторством: Zhurenko, V.P., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zhurenko, V.P., та інші
Опубліковано: (2003)
Plasma density measurement of RF ion source
за авторством: Voznyy, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Voznyy, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Ion energy distribution and basic characteristics of plasma flows of nonself-sustained arc discharge
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)
Quasi steady-state distributions for collisional plasmas in the presence of energy and particle sources
за авторством: Potapenko, I.F., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Potapenko, I.F., та інші
Опубліковано: (2005)
Resonant RF electromagnetic field input in the helicon plasma ion source
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2014)
Ion energy distributions in RF sheaths with dust particles
за авторством: Kravchenko, O. Yu., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Kravchenko, O. Yu., та інші
Опубліковано: (2009)
Ion sources optimization for high energy ion implantation by computer simulation
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
Weak ion sound turbulence and isotope anomaly in electron cyclotron resonance ion source plasmas
за авторством: Ivanov, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Ivanov, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
Influence of the principle of minimum potential energy on the distribution of density and gravitational energy of the Earth for the reference model PREM
за авторством: Fys, М.М., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Fys, М.М., та інші
Опубліковано: (2021)
Power absorption inside helicon plasma of helium RF ion source in nonaxial magnetic field
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Power absorption inside helicon plasma of helium RF ion source in nonaxial magnetic field
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Influence of ion viscosity on the distribution of parameters in the sheath at the boundary of a stationary weakly ionized strongly nonisothermal plasma
за авторством: Leleko, Ya.F.
Опубліковано: (2023)
за авторством: Leleko, Ya.F.
Опубліковано: (2023)
The low energy ribbon ion beam source and transport system
за авторством: Masunov, E.S., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Masunov, E.S., та інші
Опубліковано: (2006)
Heavy ion beam injectors for the plasma potential and electron temperature measurements
за авторством: Bondarenko, I.S., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bondarenko, I.S., та інші
Опубліковано: (2000)
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Effective grain potential in a plasma with external sources of ionization
за авторством: Zagorodny, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Zagorodny, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)
Influence of the ion viscosity on the current sheet formation and plasma heating
за авторством: Kurov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Kurov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)
The Local Sources of Detrital Material in Middle Devonian Quartzites of the Donets Basin: Results of U-Pb LA-ICP-MS Zircon Dating
за авторством: L. V. Shumlyanskyy, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: L. V. Shumlyanskyy, та інші
Опубліковано: (2021)
Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Distributions of Energy Losses by Fast Ions along Their Propagation Paths in Solids
за авторством: Ilyina, V.V., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Ilyina, V.V., та інші
Опубліковано: (2010)
Ion acoustic instability in dusty plasma
за авторством: Susayev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Susayev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2020)
The influence of the bias potential and working gas pressure on the properties of the ion-plasma multilayer coating TiSiN/NbN
за авторством: D. V. Horokh, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: D. V. Horokh, та інші
Опубліковано: (2022)
Characterization of plasma and emergent ion beam in a compact helicon source with permanent magnets
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Influence of deposition conditions and annealing temperature on phase composition and structure of W-B system ion-plasma condensates
за авторством: Sobol, O.V.
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sobol, O.V.
Опубліковано: (2006)
Measurement of distribution function of REB, used in collective ion accelerator
за авторством: Chupikov, P.T., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Chupikov, P.T., та інші
Опубліковано: (2004)
Influence of metal hydride hollow cathode on Penning ion source operation
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)
Схожі ресурси
-
Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source
за авторством: O. V. Vozniy, та інші
Опубліковано: (2007) -
Spatial distributions of plasma parameters in ICP reactor
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2010) -
Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Actinometric study of oxygen dissociation in ICP source
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)