Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки

Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки

Для детекторов короткопробежных частиц созданы пленочные CdTe-детекторные структуры с барьером Шоттки. Структуры изготовлены на основе крупноблочных p-CdTе пленок с удельным сопротивлением ρ ∼ 10⁷ Ом⋅cм. Кристаллиты пленок расположены ортогонально к плоскости Мо-подложки, на которой они сформирова...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физическая инженерия поверхности
Дата:2013
Автори: Мирсагатов, Ш.А., Ачилов, А.С., Заверюхин, Б.Н.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2013
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99829
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки / Ш.А. Мирсагатов, А.С. Ачилов, Б.Н. Заверюхин // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 216–222. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-99829
record_format dspace
spelling Мирсагатов, Ш.А.
Ачилов, А.С.
Заверюхин, Б.Н.
2016-05-04T15:58:35Z
2016-05-04T15:58:35Z
2013
Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки / Ш.А. Мирсагатов, А.С. Ачилов, Б.Н. Заверюхин // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 216–222. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99829
53.043;53.023.539.234
Для детекторов короткопробежных частиц созданы пленочные CdTe-детекторные структуры с барьером Шоттки. Структуры изготовлены на основе крупноблочных p-CdTе пленок с удельным сопротивлением ρ ∼ 10⁷ Ом⋅cм. Кристаллиты пленок расположены ортогонально к плоскости Мо-подложки, на которой они сформированы. Исследованы вольт-фарадные, вольтамперные и шумовые характеристики структур. Структуры регистрировали α-частицы с энергией 5.482 MэВ от источника Am²⁴¹. Энергетическое разрешение R-структур составляет величину 22 ÷ 29 кэВ при напряжениях смещения V = 5 − 8 В и T = 293 K. При повышении величины V происходит инжекция неосновных носителей в базу структур. Установлено, что источником инжекции электронов в базу является Мо-контакт и соединение MoO₃ вблизи него.
Для детекторів короткопробіжних частинок створені плівкові CdTe-детекторні структури з бар’єром Шоттки. Структури виготовлені на основі великоблочних p-CdTе плівок з питомим опором ρ ∼ 10⁷ Ом⋅cм. Кристаліити плівок розташовані ортогонально до площини Мо-підкладинки, на якій вони сформовані. Досліджені вольт-фарадні, вольтамперні та шумові характеристики структур. Структури реєстрували α-частинки з енергією 5.482 MеВ від джерела Am²⁴¹. Енергетичний можливий розподіл R-структур становить величину 22 ÷ 29 кеВ при напругах зсуву V = 5 − 8 В і T = 293 K. При підвищенні величини V відбувається інжекція неосновних носіїв у базу структур. Установлено, що джерелом інжекції електронів у базу є Мо-контакт і з’єднання MoO₃ поблизу нього.
At first for registration of nuclear radiation film CdTe-detector structures with Schottky barrier were created. The structures are made on the basis of large block-p-CdTe films with resistivity ρ ∼ 10⁷ Om⋅cm. Crystallites of the films are orthogonal to plane of Mo-substrate on which they are formed. The capacitance-voltage, current-voltage characteristics and an energy resolution of the structures were measured and transport mechanisms of current carriers were defined for different values of bias voltage. The structures registried α-particles with energy 5.482 MeV from source Am²⁴¹. Energy resolution R of the structures was 22 ÷ 29 keV at T = 293 K. It is established that improving of the characteristics of the detector structures associated with removal processes of an electron injection in region of back Mo-contact. It was found that source of the electron injection аt high bias voltages are Mo-contact and oxide MoO₃ between the film and the molybdenum contact.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки
Тонкоплівкові детекторні CdTe-структури з бар’єром Шоттки
Thin film cdte-structures with barrier Schottky
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки
spellingShingle Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки
Мирсагатов, Ш.А.
Ачилов, А.С.
Заверюхин, Б.Н.
title_short Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки
title_full Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки
title_fullStr Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки
title_full_unstemmed Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки
title_sort тонкопленочные детекторные cdte-структуры с барьером шоттки
author Мирсагатов, Ш.А.
Ачилов, А.С.
Заверюхин, Б.Н.
author_facet Мирсагатов, Ш.А.
Ачилов, А.С.
Заверюхин, Б.Н.
publishDate 2013
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Тонкоплівкові детекторні CdTe-структури з бар’єром Шоттки
Thin film cdte-structures with barrier Schottky
description Для детекторов короткопробежных частиц созданы пленочные CdTe-детекторные структуры с барьером Шоттки. Структуры изготовлены на основе крупноблочных p-CdTе пленок с удельным сопротивлением ρ ∼ 10⁷ Ом⋅cм. Кристаллиты пленок расположены ортогонально к плоскости Мо-подложки, на которой они сформированы. Исследованы вольт-фарадные, вольтамперные и шумовые характеристики структур. Структуры регистрировали α-частицы с энергией 5.482 MэВ от источника Am²⁴¹. Энергетическое разрешение R-структур составляет величину 22 ÷ 29 кэВ при напряжениях смещения V = 5 − 8 В и T = 293 K. При повышении величины V происходит инжекция неосновных носителей в базу структур. Установлено, что источником инжекции электронов в базу является Мо-контакт и соединение MoO₃ вблизи него. Для детекторів короткопробіжних частинок створені плівкові CdTe-детекторні структури з бар’єром Шоттки. Структури виготовлені на основі великоблочних p-CdTе плівок з питомим опором ρ ∼ 10⁷ Ом⋅cм. Кристаліити плівок розташовані ортогонально до площини Мо-підкладинки, на якій вони сформовані. Досліджені вольт-фарадні, вольтамперні та шумові характеристики структур. Структури реєстрували α-частинки з енергією 5.482 MеВ від джерела Am²⁴¹. Енергетичний можливий розподіл R-структур становить величину 22 ÷ 29 кеВ при напругах зсуву V = 5 − 8 В і T = 293 K. При підвищенні величини V відбувається інжекція неосновних носіїв у базу структур. Установлено, що джерелом інжекції електронів у базу є Мо-контакт і з’єднання MoO₃ поблизу нього. At first for registration of nuclear radiation film CdTe-detector structures with Schottky barrier were created. The structures are made on the basis of large block-p-CdTe films with resistivity ρ ∼ 10⁷ Om⋅cm. Crystallites of the films are orthogonal to plane of Mo-substrate on which they are formed. The capacitance-voltage, current-voltage characteristics and an energy resolution of the structures were measured and transport mechanisms of current carriers were defined for different values of bias voltage. The structures registried α-particles with energy 5.482 MeV from source Am²⁴¹. Energy resolution R of the structures was 22 ÷ 29 keV at T = 293 K. It is established that improving of the characteristics of the detector structures associated with removal processes of an electron injection in region of back Mo-contact. It was found that source of the electron injection аt high bias voltages are Mo-contact and oxide MoO₃ between the film and the molybdenum contact.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99829
citation_txt Тонкопленочные детекторные CdTe-структуры с барьером Шоттки / Ш.А. Мирсагатов, А.С. Ачилов, Б.Н. Заверюхин // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 216–222. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT mirsagatovša tonkoplenočnyedetektornyecdtestrukturysbarʹeromšottki
AT ačilovas tonkoplenočnyedetektornyecdtestrukturysbarʹeromšottki
AT zaverûhinbn tonkoplenočnyedetektornyecdtestrukturysbarʹeromšottki
AT mirsagatovša tonkoplívkovídetektornícdtestrukturizbarêromšottki
AT ačilovas tonkoplívkovídetektornícdtestrukturizbarêromšottki
AT zaverûhinbn tonkoplívkovídetektornícdtestrukturizbarêromšottki
AT mirsagatovša thinfilmcdtestructureswithbarrierschottky
AT ačilovas thinfilmcdtestructureswithbarrierschottky
AT zaverûhinbn thinfilmcdtestructureswithbarrierschottky
first_indexed 2025-12-07T20:05:12Z
last_indexed 2025-12-07T20:05:12Z
_version_ 1850881251259449344

Схожі ресурси