Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods

Improvement of physical, mechanical and chemical properties of thin nitride films depends on the methods of their deposition and improvement of the structure, which determines the obtained properties. In the production of nitride films, which are promising in solid-state microelectronics and instrum...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2014
Автори: Василенко, Наталья Афанасьевна, Василенко, Алексей Олегович
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут енергетичних машин і систем ім. А. М. Підгорного Національної академії наук України 2014
Теми:
Онлайн доступ:https://journals.uran.ua/jme/article/view/19925
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Energy Technologies & Resource Saving

Репозиторії

Energy Technologies & Resource Saving