Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods

• Дата: 2014
• Автори: Василенко, Наталья Афанасьевна, Василенко, Алексей Олегович
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут енергетичних машин і систем ім. А. М. Підгорного Національної академії наук України 2014
• Теми: ion implantation; condensation and ion bombardment; nitride; physicochemical properties; УДК 535.338.43.533.59; ионная имплантация; конденсация и ионная бомбардировка; нитрид; физико-химические свойства; іонна імплантація; конденсація і іонне бомбардування; нітрид; фізико-хімічні властивості
• Онлайн доступ: https://journals.uran.ua/jme/article/view/19925
• Назва журналу: Energy Technologies & Resource Saving

Improvement of physical, mechanical and chemical properties of thin nitride films depends on the methods of their deposition and improvement of the structure, which determines the obtained properties. In the production of nitride films, which are promising in solid-state microelectronics and instrum...