Синтез та фізико-хімічні властивості нанорозмірного діоксиду ванадію на поверхні кремнію
The method of molecular layering ? atomic layer deposition with varied conditions of synthesis has been used to obtain two- and tree-dimensional nanostructures of vanadium dioxide on single-crystal silicon surface. A growth mechanism for nanostructures of various dimensionalities has been proposed b...
Gespeichert in:
| Datum: | 2011 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine
2011
|
| Online Zugang: | https://www.cpts.com.ua/index.php/cpts/article/view/123 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Chemistry, Physics and Technology of Surface |