Синтез та фізико-хімічні властивості нанорозмірного діоксиду ванадію на поверхні кремнію

The method of molecular layering ? atomic layer deposition with varied conditions of synthesis has been used to obtain two- and tree-dimensional nanostructures of vanadium dioxide on single-crystal silicon surface. A growth mechanism for nanostructures of various dimensionalities has been proposed b...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2011
Hauptverfasser: Nazarov, D. V., Osmolowskaya, O. M., Smirnov, V. M., Murin, I. V., Glumov, O. V., Mel'nikova, N. A.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine 2011
Online Zugang:https://www.cpts.com.ua/index.php/cpts/article/view/123
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Chemistry, Physics and Technology of Surface

Institution

Chemistry, Physics and Technology of Surface