Синтез та фізико-хімічні властивості нанорозмірного діоксиду ванадію на поверхні кремнію
The method of molecular layering ? atomic layer deposition with varied conditions of synthesis has been used to obtain two- and tree-dimensional nanostructures of vanadium dioxide on single-crystal silicon surface. A growth mechanism for nanostructures of various dimensionalities has been proposed b...
Збережено в:
| Дата: | 2011 |
|---|---|
| Автори: | , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine
2011
|
| Онлайн доступ: | https://www.cpts.com.ua/index.php/cpts/article/view/123 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Chemistry, Physics and Technology of Surface |
Репозитарії
Chemistry, Physics and Technology of SurfaceБудьте першим, хто залишить коментар!