Теоретичне вивчення лазерного відпалу нестехіометричних плівок SiOx

The mathematical modeling of temperature distribution in SiOx film was carried out. The use of laser annealing in SiOx films is shown to be advisable and multi-pulse annealing being more effective than single-pulse one. The maximum temperature after the laser pulse in the center of the laser beam do...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2014
1. Verfasser: Gavrylyuk, O. O.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine 2014
Schlagworte:
Online Zugang:https://www.cpts.com.ua/index.php/cpts/article/view/307
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Назва журналу:Chemistry, Physics and Technology of Surface

Institution

Chemistry, Physics and Technology of Surface

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