Проблеми хіміко-динамічного полірування в технології кремнієвих p-i-n фотодіодів

• Datum: 2023
• 1. Verfasser: Kukurudziak, M. S.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainisch
• Veröffentlicht: Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine 2023
• Schlagworte: кремній; фотодіод; хіміко-динамічне полірування; дислокація
• Online Zugang: https://www.cpts.com.ua/index.php/cpts/article/view/658
• Назва журналу: Chemistry, Physics and Technology of Surface

During the preparation of silicon substrates for the manufacture of silicon p-i-n photodiodes, the effect of the presence of chemical-dynamic polishing and the depth of etching on the electrical parameters of the FD was observed. The quality of the polishing operation also affected the optical and p...