Проблеми хіміко-динамічного полірування в технології кремнієвих p-i-n фотодіодів

• Date: 2023
• Main Author: Kukurudziak, M. S.
• Format: Article
• Language: Ukrainian
• Published: Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine 2023
• Subjects: кремній; фотодіод; хіміко-динамічне полірування; дислокація
• Online Access: https://www.cpts.com.ua/index.php/cpts/article/view/658
• Journal Title: Chemistry, Physics and Technology of Surface

During the preparation of silicon substrates for the manufacture of silicon p-i-n photodiodes, the effect of the presence of chemical-dynamic polishing and the depth of etching on the electrical parameters of the FD was observed. The quality of the polishing operation also affected the optical and p...