Нестехіометричний оксид кремнію SiOx (x < 2)

• Дата: 2019
• Автори та афіліації: O. V. Filonenko — Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка Національної академії наук України; V. V. Lobanov — Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка Національної академії наук України
• Ключові слова: keywords
• Автори: Filonenko, O. V., Lobanov, V. V.
• Формат: Стаття
• Мова: Українська
• Опубліковано: Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine 2019
• Теми: нестехіометричний оксид кремнію; нанокластери кремнію; модель випадкових зв’язків; модель випадкових сумішей; фотоелектронні та ІЧ - спектри; квантовохімічні методи розрахунку
• Онлайн доступ: https://surfacezbir.com.ua/index.php/surface/article/view/659
• Назва журналу: Surface

The review is devoted to the analysis of experimentally and theoretically obtained data on the methods of synthesis, structure and properties of non-stoichiometric silicon oxide SiOx (x <2) in a wide range of the oxygen content. The main areas of application of silicon suboxide in micro-...