Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO2/Si3N4

The capacitance–voltage characteristics of n(p)-HgCdTe/SiO2/Si3N4 and n(p)-HgCdTe/anodic oxide film MIS structures have been experimentally investigated at different frequencies and voltage sweep directions. Specific features of electrophysical characteristics have been identified, associated with t...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2005
Автори: Voitsekhovskii, A. V., Nesmelov, S. N., Kulchitskii, N. A.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2005
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.4.35
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment

Схожі ресурси