Поліпшення зворотних характеристик діода Шотткі при використанні гетерування
The paper considers the causes and mechanisms of the influence of defects and impurities on the reverse current of the Schottky diode. The influence of two getter regions, which were created by different technologies on the working side and the reverse side of the plate, on the value of the reverse...
Gespeichert in:
| Datum: | 2019 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | Litvinenko, V., Vikulin, I., Gorbachev, V. |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2019
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2019.1-2.34 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipmentÄhnliche Einträge
-
Покращення параметрів планарного імпульсного діода при використанні гетерування
von: Litvinenko, Viktor, et al.
Veröffentlicht: (2021) -
Поліпшення параметрів кремнієвих варикапів при використанні лазерного гетерування
von: Vikulin, I. M., et al.
Veröffentlicht: (2018) -
Поліпшення зворотних характеристик кремнієвого варикапа за допомогою низькотемпературного гетерування
von: Litvinenko, Victor, et al.
Veröffentlicht: (2023) -
Вплив гетерування на процес формування алюмінієвого омічного контакту
von: Litvinenko, Victor, et al.
Veröffentlicht: (2020) -
Вольт-амперні характеристики діодів Шотткі на основі гетероструктури графен/n-Si
von: Koziarskyi, Ivan, et al.
Veröffentlicht: (2023)