Поліпшення зворотних характеристик діода Шотткі при використанні гетерування
The paper considers the causes and mechanisms of the influence of defects and impurities on the reverse current of the Schottky diode. The influence of two getter regions, which were created by different technologies on the working side and the reverse side of the plate, on the value of the reverse...
Збережено в:
| Дата: | 2019 |
|---|---|
| Автори: | Litvinenko, V., Vikulin, I., Gorbachev, V. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2019
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2019.1-2.34 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Репозитарії
Technology and design in electronic equipmentСхожі ресурси
-
Покращення параметрів планарного імпульсного діода при використанні гетерування
за авторством: Litvinenko, Viktor, та інші
Опубліковано: (2021) -
Поліпшення параметрів кремнієвих варикапів при використанні лазерного гетерування
за авторством: Vikulin, I. M., та інші
Опубліковано: (2018) -
Поліпшення зворотних характеристик кремнієвого варикапа за допомогою низькотемпературного гетерування
за авторством: Litvinenko, Victor, та інші
Опубліковано: (2023) -
Вплив гетерування на процес формування алюмінієвого омічного контакту
за авторством: Litvinenko, Victor, та інші
Опубліковано: (2020) -
Вольт-амперні характеристики діодів Шотткі на основі гетероструктури графен/n-Si
за авторством: Koziarskyi, Ivan, та інші
Опубліковано: (2023)