Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс"

• Veröffentlicht in: Технологія та конструювання в електронній апаратурі
• Datum: 2002
• Heft: 6
• Сторінки: 45-47
• ISSN: 3083-6549
• Автори та афіліації: H. V. Savytskyi — SPA «Karat», Lviv, Ukraine; A. Yu. Bonchyk — Ya. S. Pidstrygach Institute of Problems of Microelectronics and Design of NASU, Lviv, Ukraine; I. I. Izhnin — SPA «Karat», Lviv, Ukraine; S. H. Kyyak — Ya. S. Pidstrygach Institute of Problems of Microelectronics and Design of NASU, Lviv, Ukraine; I. A. Mohyliak — Ya. S. Pidstrygach Institute of Problems of Microelectronics and Design of NASU, Lviv, Ukraine; I. P. Trostinskyi — SPA «Karat», Lviv, Ukraine
• Hauptverfasser: Savytskyi, H. V., Bonchyk, A. Yu., Izhnin, I. I., Kyyak, S. H., Mohyliak, I. A., Trostinskyi, I. P.
• Format: Artikel
• Sprache: Walisisch
• Veröffentlicht: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2002
• Schlagworte: фотонный отжиг; полупроводниковые пластины; модернизация установки; температурно-временные циклы; управляющая программа
• Online Zugang: https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2002.6.45
• Назва журналу: Technology and design in electronic equipment

The modernization of the "Onyx" industrial photonic annealing system for semiconductor wafers was carried out to ensure the repeatability and reproducibility of short-duration annealing temperature-time cycles at high heating rates. The control program allows forming the temperatur...