Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат

Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат

Modernization of horizontal low pressure deposition system has been performed. The liquid source delivery system using the bubblers has been developed. The PSG and BPSG film deposition processes and film properties using TEOS – Dimethylphosphite – TEB system have been studied. It is shown that the u...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2015
Автори: Turtsevich, A. S., Nalivaiko, O. Yu.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2015
Теми:
борофосфоросиликатное стекло
осаждение
планарность топологического рельефа
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2015.1.49
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-294
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-2942025-05-30T19:33:09Z Deposition of borophosphosilicate glass films using the TEOS – dimethylphosphite – trimethylborate system Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат Turtsevich, A. S. Nalivaiko, O. Yu. borophosphatesilicate glass deposition topological relief planarity борофосфоросиликатное стекло осаждение планарность топологического рельефа Modernization of horizontal low pressure deposition system has been performed. The liquid source delivery system using the bubblers has been developed. The PSG and BPSG film deposition processes and film properties using TEOS – Dimethylphosphite – TEB system have been studied. It is shown that the use of dimethylphosphite allows varying the phosphorus concentration in the wide range. It is found that the optimal range of the total boron and phosphorus concentration ensuring the acceptable topology planarity and resistance to defect formation during storage is 8.7 – 0.3 wt% when the phosphorus concentration is 3.0 – 3.8 wt%. It is found that at use of the TEOS – DMP – TEB system the depletion of the phosphorus concentration along the reaction zone does not occur, and the total dopant concentration is practically constant. At the same time, the deposition rate of BPSG films is 9.0 – 10.0 nm/min and the good film thickness uniformity is ensured. The as-deposited films have “mirror-like surface” that is proof of minimal surface roughness. The BPSG films with optimal composition are characterized by the reduced reaction capability against atmospheric moisture. Проведена модернизация горизонтального реактора пониженного давления. Разработана система подачи жидкого реагента с использованием барботеров. Исследованы процессы осаждения пленок и свойства пленок фосфосиликатного и борофосфосиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит (ДМФ) – триметилборат (ТМФ). PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2015-02-24 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2015.1.49 10.15222/TKEA2015.1.49 Technology and design in electronic equipment; No. 1 (2015): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 49-58 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 1 (2015): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 49-58 3083-6549 3083-6530 en https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2015.1.49/260 Copyright (c) 2015 Turtsevich A. S., Nalivaiko O. Y. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-05-30T19:33:09Z
collection OJS
language English
topic борофосфоросиликатное стекло
осаждение
планарность топологического рельефа
spellingShingle борофосфоросиликатное стекло
осаждение
планарность топологического рельефа
Turtsevich, A. S.
Nalivaiko, O. Yu.
Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат
topic_facet borophosphatesilicate glass
deposition
topological relief planarity
борофосфоросиликатное стекло
осаждение
планарность топологического рельефа
format Article
author Turtsevich, A. S.
Nalivaiko, O. Yu.
author_facet Turtsevich, A. S.
Nalivaiko, O. Yu.
author_sort Turtsevich, A. S.
title Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат
title_short Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат
title_full Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат
title_fullStr Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат
title_full_unstemmed Осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС – диметилфосфит – триме­тил­борат
title_sort осаждение пленок борофосфоросиликатного стекла с использованием системы тэос – диметилфосфит – триме­тил­борат
title_alt Deposition of borophosphosilicate glass films using the TEOS – dimethylphosphite – trimethylborate system
description Modernization of horizontal low pressure deposition system has been performed. The liquid source delivery system using the bubblers has been developed. The PSG and BPSG film deposition processes and film properties using TEOS – Dimethylphosphite – TEB system have been studied. It is shown that the use of dimethylphosphite allows varying the phosphorus concentration in the wide range. It is found that the optimal range of the total boron and phosphorus concentration ensuring the acceptable topology planarity and resistance to defect formation during storage is 8.7 – 0.3 wt% when the phosphorus concentration is 3.0 – 3.8 wt%. It is found that at use of the TEOS – DMP – TEB system the depletion of the phosphorus concentration along the reaction zone does not occur, and the total dopant concentration is practically constant. At the same time, the deposition rate of BPSG films is 9.0 – 10.0 nm/min and the good film thickness uniformity is ensured. The as-deposited films have “mirror-like surface” that is proof of minimal surface roughness. The BPSG films with optimal composition are characterized by the reduced reaction capability against atmospheric moisture.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2015
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2015.1.49
work_keys_str_mv AT turtsevichas depositionofborophosphosilicateglassfilmsusingtheteosdimethylphosphitetrimethylboratesystem
AT nalivaikooyu depositionofborophosphosilicateglassfilmsusingtheteosdimethylphosphitetrimethylboratesystem
AT turtsevichas osaždenieplenokborofosforosilikatnogosteklasispolʹzovaniemsistemytéosdimetilfosfittrimetilborat
AT nalivaikooyu osaždenieplenokborofosforosilikatnogosteklasispolʹzovaniemsistemytéosdimetilfosfittrimetilborat
first_indexed 2025-09-24T17:30:41Z
last_indexed 2025-09-24T17:30:41Z
_version_ 1850410234444513280

Схожі ресурси