Получение пригодного для сенсорики пористого кремния методом неэлектролитического травления MacEtch
The author suggests using the etching method MacEtch (metal-assisted chemical etching) for production of micro- and nanostructures of porous silicon. The paper presents research results on the morphology structures obtained at different parameters of deposition and etching processes. The research ha...
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автор: | Iatsunskyi, I. R. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2013
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2013.6.52 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Репозитарії
Technology and design in electronic equipmentСхожі ресурси
Формирование полированной поверхности халькогенидов Bi и Sb в травильных композициях K2Cr2O7–HBr
за авторством: Pavlovich, I. I., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Pavlovich, I. I., та інші
Опубліковано: (2011)
Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
за авторством: Andronova, О. V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Andronova, О. V., та інші
Опубліковано: (2008)
Особенности изготовления Cd1–xZnxTe-детектора ионизирующего излучения
за авторством: Tomashik, Z. F., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Tomashik, Z. F., та інші
Опубліковано: (2013)
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
за авторством: Boltovets, M. S., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Boltovets, M. S., та інші
Опубліковано: (2009)
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
за авторством: Fedorovich, O. A., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Fedorovich, O. A., та інші
Опубліковано: (2009)
Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния
за авторством: Forsh, P. A., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Forsh, P. A., та інші
Опубліковано: (2009)
Формирование МОП-транзисторов с изоляцией активных элементов окисленным пористым кремнием
за авторством: Novosyadlyi, S. P., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Novosyadlyi, S. P., та інші
Опубліковано: (2009)
Получение полуизолирующего кремния для высоковольтных приборов
за авторством: Turtsevich, A. S.
Опубліковано: (2008)
за авторством: Turtsevich, A. S.
Опубліковано: (2008)
Кремний мультипористой текстуры для фотоэлектрических преобразователей солнечной энергии
за авторством: Yerokhov, V. Yu., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Yerokhov, V. Yu., та інші
Опубліковано: (2009)
Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
за авторством: Golishnikov, А. А., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Golishnikov, А. А., та інші
Опубліковано: (2014)
Оптимизация конструкции мембранных датчиков
за авторством: Rubcevich, I. I., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Rubcevich, I. I., та інші
Опубліковано: (2009)
МЕМБРАННІ МАТЕРІАЛИ НА ОСНОВІ ПОРИСТОГО АНОДНОГО ОКСИДУ АЛЮМІНІЮ
за авторством: Rozhdestvenska, Liudmyla, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Rozhdestvenska, Liudmyla, та інші
Опубліковано: (2021)
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
ВПЛИВ ПОРИСТОГО СЕРЕДОВИЩА НА ТЕПЛООБМІН ПРИ ПЛІВКОВОМУ КИПІННІ РІДИНИ
за авторством: Avramenko, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Avramenko, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Режим работы двухкаскадного термоэлектрического охлаждающего устройства, обеспечивающий минимальную интенсивность отказов
за авторством: Dudin, S. V., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Dudin, S. V., та інші
Опубліковано: (2011)
Energy-saving technology for processing of exhausted etching solutions with obtaining of ferromagnetic compounds
за авторством: Samchenko, Dmitry N., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Samchenko, Dmitry N., та інші
Опубліковано: (2022)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
Получение эффективных катодолюминесцентных структур на базе пленочной технологии
за авторством: Kovalenko, L. F., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Kovalenko, L. F., та інші
Опубліковано: (2008)
Низкоразмерные кристаллы кремния для фотоэлектрических преобразователей
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2011)
Технология изготовления контактов к карбиду кремния
за авторством: Kudryk, Ya. Ya., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Kudryk, Ya. Ya., та інші
Опубліковано: (2013)
Получение, свойства и применение тонких нанонеоднородных пленок Ge на GaAs-подложках
за авторством: Venger, E. F., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Venger, E. F., та інші
Опубліковано: (2014)
Получение активных слоев InP в составе гетероструктур для диодов Ганна
за авторством: Vakiv, M. M., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Vakiv, M. M., та інші
Опубліковано: (2010)
Температурные поля в растущем кристалле «солнечного кремния»
за авторством: Kondrik, A. I., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Kondrik, A. I., та інші
Опубліковано: (2012)
Получение двухсторонних высоковольтных эпитаксиальных кремниевых p–i–n-структур методом ЖФЭ
за авторством: Vakiv, N. M., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Vakiv, N. M., та інші
Опубліковано: (2013)
Получение арсенид-галлиевых структур силовых биполярных и полевых транзисторов методом газофазной эпитаксии
за авторством: Voronin, V. A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Voronin, V. A., та інші
Опубліковано: (2010)
Двухфункциональный датчик давления-температуры на основе нитевидных кристаллов кремния
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2013)
Тензорезисторы для низких температур на основе нитевидных кристаллов кремния
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2008)
ПОЛУЧЕНИЕ ЛОПАТОК ГТУ ИЗ НОВОГО ЖАРОПРОЧНОГО СПЛАВА В КЕРАМИЧЕСКИХ ФОРМАХ ПО УДАЛЯЕМЫМ ППС–МОДЕЛЯМ
за авторством: Шинский, О. И., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Шинский, О. И., та інші
Опубліковано: (2018)
Высокотемпературные датчики давления с тензорезисторами на основе нитевидных кристаллов кремния
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2012)
Методы удаления дефектов, возникающих при жидкостном травлении поверхности поликристаллического кремния
за авторством: Ivanchykou, A. E., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Ivanchykou, A. E., та інші
Опубліковано: (2008)
Физико-технологические аспекты создания низковольтных ограничителей напряжения на основе кремния
за авторством: Rakhmatov, A. Z., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Rakhmatov, A. Z., та інші
Опубліковано: (2010)
Получение тонких пленок Si3N4 при пониженном давлении на пластинах диаметром до 200 мм
за авторством: Nalivaiko, O. Yu., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Nalivaiko, O. Yu., та інші
Опубліковано: (2012)
Влияние слоя поликристаллического кремния на механизмы токопереноса в контактах «металл — p-кремний»
за авторством: Smyntyna, V. A., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Smyntyna, V. A., та інші
Опубліковано: (2011)
Локальные свойства электрически активных дефектов в солнечных батареях на основе кремния
за авторством: Popov, V. M., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Popov, V. M., та інші
Опубліковано: (2010)
Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
за авторством: Kulinich, O. A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Kulinich, O. A., та інші
Опубліковано: (2008)
Исследование частотной зависимости проводимости нитевидных кристаллов кремния при криогенных температурах для создания сенсоров температуры на их основе
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2019)
Исследование свойств пленок нитрида и оксида кремния, полученных методом плазмохимического осаждения на кремниевую подложку
за авторством: Rubtsevich, I. I., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Rubtsevich, I. I., та інші
Опубліковано: (2011)
Адсорбционно-кинетическая модель осаждения пленок поликристаллического кремния, легированных фосфором в процессе роста
за авторством: Nalivaiko, O. Yu., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Nalivaiko, O. Yu., та інші
Опубліковано: (2009)
Влияние облучения кремния низкоэнергетическими ионами аргона на образование в нем электрически активных дефектов
за авторством: Popov, V. M., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Popov, V. M., та інші
Опубліковано: (2009)
Схожі ресурси
-
Формирование полированной поверхности халькогенидов Bi и Sb в травильных композициях K2Cr2O7–HBr
за авторством: Pavlovich, I. I., та інші
Опубліковано: (2011) -
Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
за авторством: Andronova, О. V., та інші
Опубліковано: (2008) -
Особенности изготовления Cd1–xZnxTe-детектора ионизирующего излучения
за авторством: Tomashik, Z. F., та інші
Опубліковано: (2013) -
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
за авторством: Boltovets, M. S., та інші
Опубліковано: (2009) -
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
за авторством: Fedorovich, O. A., та інші
Опубліковано: (2009)