Диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах GaAs

A simple method for the determination of the concentration of vacant deep traps in the vicinity of the «film — substrate» interface is proposed. The method is based on determining the increase in the width of the conducting channel under extrinsic illumination from the shift of the inflection point...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автори: Gorev, N. B., Kodzhespirova, I. F., Privalov, E. N.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2010
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.4.53
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-570
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-5702025-11-15T21:32:13Z Deep trap diagnostics at the film — substrate interface in GaAs thin-film epitaxial structures Диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах GaAs Gorev, N. B. Kodzhespirova, I. F. Privalov, E. N. gallium arsenide epitaxial structure Schottky barriers capacity-voltage characteristic deep centers арсенид галлия эпитаксиальная структура барьер Шоттки вольт-фарадная характеристика глубокие центры A simple method for the determination of the concentration of vacant deep traps in the vicinity of the «film — substrate» interface is proposed. The method is based on determining the increase in the width of the conducting channel under extrinsic illumination from the shift of the inflection point in the capacitance-voltage curve. The reliability of the method is confirmed by measurement of the concentration of vacant deep traps in GaAs wafers with and without a buffer layer. Предложен простой метод определения концентрации незаполненных глубоких центров вбли­зи границы «пленка — подложка». Метод основан на определении увеличения ширины про­во­дя­ще­го канала под действием примесного освещения по сдвигу точки перегиба вольт-фа­рад­ной характеристики. Достоверность метода подтверждена измерениями концентрации не­за­пол­нен­ных глубоких центров в арсенид-галлиевых пластинах с буферным слоем и без него. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2010-08-24 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.4.53 Technology and design in electronic equipment; No. 4 (2010): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 53-56 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 4 (2010): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 53-56 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.4.53/517 Copyright (c) 2010 Gorev N. B., Kodzhespirova I. F., Privalov E. N. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-11-15T21:32:13Z
collection OJS
language Ukrainian
topic арсенид галлия
эпитаксиальная структура
барьер Шоттки
вольт-фарадная характеристика
глубокие центры
spellingShingle арсенид галлия
эпитаксиальная структура
барьер Шоттки
вольт-фарадная характеристика
глубокие центры
Gorev, N. B.
Kodzhespirova, I. F.
Privalov, E. N.
Диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах GaAs
topic_facet gallium arsenide
epitaxial structure
Schottky barriers
capacity-voltage characteristic
deep centers
арсенид галлия
эпитаксиальная структура
барьер Шоттки
вольт-фарадная характеристика
глубокие центры
format Article
author Gorev, N. B.
Kodzhespirova, I. F.
Privalov, E. N.
author_facet Gorev, N. B.
Kodzhespirova, I. F.
Privalov, E. N.
author_sort Gorev, N. B.
title Диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах GaAs
title_short Диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах GaAs
title_full Диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах GaAs
title_fullStr Диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах GaAs
title_full_unstemmed Диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах GaAs
title_sort диагностика глубоких центров на границе пленка–подложка в тонкопленочных эпи­так­си­аль­ных структурах gaas
title_alt Deep trap diagnostics at the film — substrate interface in GaAs thin-film epitaxial structures
description A simple method for the determination of the concentration of vacant deep traps in the vicinity of the «film — substrate» interface is proposed. The method is based on determining the increase in the width of the conducting channel under extrinsic illumination from the shift of the inflection point in the capacitance-voltage curve. The reliability of the method is confirmed by measurement of the concentration of vacant deep traps in GaAs wafers with and without a buffer layer.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2010
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.4.53
work_keys_str_mv AT gorevnb deeptrapdiagnosticsatthefilmsubstrateinterfaceingaasthinfilmepitaxialstructures
AT kodzhespirovaif deeptrapdiagnosticsatthefilmsubstrateinterfaceingaasthinfilmepitaxialstructures
AT privaloven deeptrapdiagnosticsatthefilmsubstrateinterfaceingaasthinfilmepitaxialstructures
AT gorevnb diagnostikaglubokihcentrovnagraniceplenkapodložkavtonkoplenočnyhépitaksialʹnyhstrukturahgaas
AT kodzhespirovaif diagnostikaglubokihcentrovnagraniceplenkapodložkavtonkoplenočnyhépitaksialʹnyhstrukturahgaas
AT privaloven diagnostikaglubokihcentrovnagraniceplenkapodložkavtonkoplenočnyhépitaksialʹnyhstrukturahgaas
first_indexed 2025-11-16T02:38:38Z
last_indexed 2025-11-16T02:38:38Z
_version_ 1850410277467586560