Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей

• Дата: 2009
• Автори: Fedorovich, O. A., Kruglenko, M. P., Polozov, B. P.
• Формат: Стаття
• Мова: Ukrainian
• Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009
• Теми: плазмохимический реактор; плазмохимическое травление; монокремний; скорость травления; ток разряда; фотоэлектрические преобразователи
• Онлайн доступ: https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46
• Назва журналу: Technology and design in electronic equipment

Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition ar...