Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition ar...
Saved in:
| Date: | 2009 |
|---|---|
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | Ukrainian |
| Published: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2009
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipment| id |
oai:tkea.com.ua:article-626 |
|---|---|
| record_format |
ojs |
| spelling |
oai:tkea.com.ua:article-6262025-11-28T17:21:18Z Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей Fedorovich, O. A. Kruglenko, M. P. Polozov, B. P. plasma-chemical reactor plasma-chemical etching monosilicon etching rate discharge current photovoltaic cells плазмохимический реактор плазмохимическое травление монокремний скорость травления ток разряда фотоэлектрические преобразователи Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition are resulted. Recommendations on technological use of PCR in an industrial production of photo-electric converters (PEC) are given. The productivity of PCR, developed in INR, is higher than productivity of the best foreign analogue of firm «Alkatel» more than in two times. Описаны результаты технологических исследований плазмохимического реактора (ПХР) для травления торцов фотоэлектрических преобразователей. Приведены зависимости скорости травления кремния от тока разряда, напряженности магнитного поля, величины площади обрабатываемой поверхности и состава рабочего газа в реакторе. Даны рекомендации по использованию ПХР в промышленном производстве. ПХР, разработанный в ИЯИ, по производительности превосходит лучший зарубежный аналог фирмы «Alkatel» более чем в два раза. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009-12-28 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46 Technology and design in electronic equipment; No. 6 (2009): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 46-49 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 6 (2009): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 46-49 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46/569 Copyright (c) 2009 Fedorovich O. A., Kruglenko M. P., Polozov B. P. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ |
| institution |
Technology and design in electronic equipment |
| baseUrl_str |
|
| datestamp_date |
2025-11-28T17:21:18Z |
| collection |
OJS |
| language |
Ukrainian |
| topic |
плазмохимический реактор плазмохимическое травление монокремний скорость травления ток разряда фотоэлектрические преобразователи |
| spellingShingle |
плазмохимический реактор плазмохимическое травление монокремний скорость травления ток разряда фотоэлектрические преобразователи Fedorovich, O. A. Kruglenko, M. P. Polozov, B. P. Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| topic_facet |
plasma-chemical reactor plasma-chemical etching monosilicon etching rate discharge current photovoltaic cells плазмохимический реактор плазмохимическое травление монокремний скорость травления ток разряда фотоэлектрические преобразователи |
| format |
Article |
| author |
Fedorovich, O. A. Kruglenko, M. P. Polozov, B. P. |
| author_facet |
Fedorovich, O. A. Kruglenko, M. P. Polozov, B. P. |
| author_sort |
Fedorovich, O. A. |
| title |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_short |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_full |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_fullStr |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_full_unstemmed |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_sort |
особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_alt |
Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters |
| description |
Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition are resulted. Recommendations on technological use of PCR in an industrial production of photo-electric converters (PEC) are given. The productivity of PCR, developed in INR, is higher than productivity of the best foreign analogue of firm «Alkatel» more than in two times. |
| publisher |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers |
| publishDate |
2009 |
| url |
https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46 |
| work_keys_str_mv |
AT fedorovichoa peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters AT kruglenkomp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters AT polozovbp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters AT fedorovichoa osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelej AT kruglenkomp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelej AT polozovbp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelej |
| first_indexed |
2025-12-02T15:19:25Z |
| last_indexed |
2025-12-02T15:19:25Z |
| _version_ |
1850410286636335104 |