Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей

Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition ar...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Date:2009
Main Authors: Fedorovich, O. A., Kruglenko, M. P., Polozov, B. P.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009
Subjects:
Online Access:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-626
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-6262025-11-28T17:21:18Z Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей Fedorovich, O. A. Kruglenko, M. P. Polozov, B. P. plasma-chemical reactor plasma-chemical etching monosilicon etching rate discharge current photovoltaic cells плазмохимический реактор плазмохимическое травление монокремний скорость травления ток разряда фотоэлектрические преобразователи Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition are resulted. Recommendations on technological use of PCR in an industrial production of photo-electric converters (PEC) are given. The productivity of PCR, developed in INR, is higher than productivity of the best foreign analogue of firm «Alkatel» more than in two times. Описаны результаты технологических исследований плаз­мо­хи­ми­чес­ко­го ре­ак­то­ра (ПХР) для трав­ле­ния тор­цов фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей. При­ве­де­ны за­ви­си­мос­ти ско­рос­ти трав­ле­ния крем­ния от то­ка раз­ря­да, на­пря­жен­нос­ти маг­нит­но­го по­ля, ве­ли­чи­ны пло­ща­ди об­ра­ба­ты­вае­мой по­верх­нос­ти и сос­та­ва ра­бо­че­го га­за в ре­ак­то­ре. Да­ны ре­ко­мен­да­ции по ис­поль­зо­ва­нию ПХР в про­мыш­лен­ном про­из­вод­стве. ПХР, раз­ра­бо­тан­ный в ИЯИ, по про­из­во­ди­тель­нос­ти пре­вос­хо­дит луч­ший за­ру­беж­ный ана­лог фир­мы «Alkatel» бо­лее чем в два раза. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009-12-28 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46 Technology and design in electronic equipment; No. 6 (2009): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 46-49 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 6 (2009): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 46-49 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46/569 Copyright (c) 2009 Fedorovich O. A., Kruglenko M. P., Polozov B. P. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-11-28T17:21:18Z
collection OJS
language Ukrainian
topic плазмохимический реактор
плазмохимическое травление
монокремний
скорость травления
ток разряда
фотоэлектрические преобразователи
spellingShingle плазмохимический реактор
плазмохимическое травление
монокремний
скорость травления
ток разряда
фотоэлектрические преобразователи
Fedorovich, O. A.
Kruglenko, M. P.
Polozov, B. P.
Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей
topic_facet plasma-chemical reactor
plasma-chemical etching
monosilicon
etching rate
discharge current
photovoltaic cells
плазмохимический реактор
плазмохимическое травление
монокремний
скорость травления
ток разряда
фотоэлектрические преобразователи
format Article
author Fedorovich, O. A.
Kruglenko, M. P.
Polozov, B. P.
author_facet Fedorovich, O. A.
Kruglenko, M. P.
Polozov, B. P.
author_sort Fedorovich, O. A.
title Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей
title_short Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей
title_full Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей
title_fullStr Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей
title_full_unstemmed Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей
title_sort особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей
title_alt Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters
description Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition are resulted. Recommendations on technological use of PCR in an industrial production of photo-electric converters (PEC) are given. The productivity of PCR, developed in INR, is higher than productivity of the best foreign analogue of firm «Alkatel» more than in two times.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2009
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46
work_keys_str_mv AT fedorovichoa peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters
AT kruglenkomp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters
AT polozovbp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters
AT fedorovichoa osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelej
AT kruglenkomp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelej
AT polozovbp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelej
first_indexed 2025-12-02T15:19:25Z
last_indexed 2025-12-02T15:19:25Z
_version_ 1850410286636335104