Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей

Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей

Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition ar...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Date:2009
Main Authors: Fedorovich, O. A., Kruglenko, M. P., Polozov, B. P.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009
Subjects:
плазмохимический реактор
плазмохимическое травление
монокремний
скорость травления
ток разряда
фотоэлектрические преобразователи
Online Access:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment

Internet

https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46

Similar Items