Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора

A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when th...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2009
Автор: Spirin, V. G.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.5.42
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-641
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-6412025-11-30T21:25:37Z Study of thin-film resistor resistance error Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора Spirin, V. G. thin-film resistor contact area of overlap тонкопленочный резистор контактная площадка перекрытия A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when the resistor aspect ratio is equal to 1.0. Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009-10-30 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.5.42 Technology and design in electronic equipment; No. 5 (2009): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 42-44 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 5 (2009): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 42-44 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.5.42/582 Copyright (c) 2009 Spirin V. G. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-11-30T21:25:37Z
collection OJS
language Ukrainian
topic тонкопленочный резистор
контактная площадка перекрытия
spellingShingle тонкопленочный резистор
контактная площадка перекрытия
Spirin, V. G.
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
topic_facet thin-film resistor
contact area of overlap
тонкопленочный резистор
контактная площадка перекрытия
format Article
author Spirin, V. G.
author_facet Spirin, V. G.
author_sort Spirin, V. G.
title Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_short Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_full Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_fullStr Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_full_unstemmed Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_sort исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_alt Study of thin-film resistor resistance error
description A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when the resistor aspect ratio is equal to 1.0.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2009
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.5.42
work_keys_str_mv AT spirinvg studyofthinfilmresistorresistanceerror
AT spirinvg issledovaniepogrešnostisoprotivleniâtonkoplenočnogorezistora
first_indexed 2025-12-02T15:19:27Z
last_indexed 2025-12-02T15:19:27Z
_version_ 1850410289124605952