Приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов

A structure of a system for converting topological information for digital lithography is proposed. A method for forming local three-dimensional SOI (Silicon-on-Insulator) structures has been developed, which makes it possible to create both planar and three-dimensional device elements and contacts....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2008
Автори: Druzhynin, А. A., Holota, V. I., Kogut, I. T., Sapon, S. V., Khoverko, Yu. M.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2008
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2008.5.43
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment
_version_ 1856543929022808064
author Druzhynin, А. A.
Holota, V. I.
Kogut, I. T.
Sapon, S. V.
Khoverko, Yu. M.
author_facet Druzhynin, А. A.
Holota, V. I.
Kogut, I. T.
Sapon, S. V.
Khoverko, Yu. M.
author_sort Druzhynin, А. A.
baseUrl_str
collection OJS
datestamp_date 2025-12-28T14:09:55Z
description A structure of a system for converting topological information for digital lithography is proposed. A method for forming local three-dimensional SOI (Silicon-on-Insulator) structures has been developed, which makes it possible to create both planar and three-dimensional device elements and contacts. On the SOI structures, a control high-voltage MOS transistor and a memory cell with a signal shaper for storing topological information have been designed. Expert optimization of the memory cell topology has made it possible to significantly reduce its area compared to that of a cell fabricated using standard n-channel MOS technology.
first_indexed 2026-02-08T08:11:02Z
format Article
id oai:tkea.com.ua:article-727
institution Technology and design in electronic equipment
language Ukrainian
last_indexed 2026-02-08T08:11:02Z
publishDate 2008
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-7272025-12-28T14:09:55Z Instrumental and technological modeling of autoemission silicon microcathodes Приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов Druzhynin, А. A. Holota, V. I. Kogut, I. T. Sapon, S. V. Khoverko, Yu. M. digital lithography autoemission microcathode stable autoemission local structures silicon-on-insulator electrical circuit цифровая литография автоэмиссионный микрокатод стабильная автоэмиссия локальные структуры “кремний-на-изоляторе” электрическая схема A structure of a system for converting topological information for digital lithography is proposed. A method for forming local three-dimensional SOI (Silicon-on-Insulator) structures has been developed, which makes it possible to create both planar and three-dimensional device elements and contacts. On the SOI structures, a control high-voltage MOS transistor and a memory cell with a signal shaper for storing topological information have been designed. Expert optimization of the memory cell topology has made it possible to significantly reduce its area compared to that of a cell fabricated using standard n-channel MOS technology. Предложена структура системы преобразования топологической информации для цифровой литографии. Разработан метод формирования локальных трехмерных КНИ-структур, который позволяет создавать как планарные, так и трехмерные приборные элементы и контакты. На КНИ-структурах разработан управляющий высоковольтный МОП-транзистор и ячейка памяти с формирователем сигналов для хранения топологической информации. Экспертная оптимизация топологии ячейки памяти позволила значительно уменьшить ее площадь по сравнению с площадью ячейки, изготовленной по стандартной n-канальной МОП-технологии. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2008-10-30 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2008.5.43 Technology and design in electronic equipment; No. 5 (2008): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 43-49 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 5 (2008): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 43-49 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2008.5.43/660 Copyright (c) 2008 Druzhynin А. A., Holota V. I., Kogut I. T., Sapon S. V., Khoverko Yu. M. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
spellingShingle цифровая литография
автоэмиссионный микрокатод
стабильная автоэмиссия
локальные структуры
“кремний-на-изоляторе”
электрическая схема
Druzhynin, А. A.
Holota, V. I.
Kogut, I. T.
Sapon, S. V.
Khoverko, Yu. M.
Приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов
title Приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов
title_alt Instrumental and technological modeling of autoemission silicon microcathodes
title_full Приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов
title_fullStr Приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов
title_full_unstemmed Приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов
title_short Приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов
title_sort приборно-технологическое моделирование автоэмиссионных кремниевых микрокатодов
topic цифровая литография
автоэмиссионный микрокатод
стабильная автоэмиссия
локальные структуры
“кремний-на-изоляторе”
электрическая схема
topic_facet digital lithography
autoemission microcathode
stable autoemission
local structures
silicon-on-insulator
electrical circuit
цифровая литография
автоэмиссионный микрокатод
стабильная автоэмиссия
локальные структуры
“кремний-на-изоляторе”
электрическая схема
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2008.5.43
work_keys_str_mv AT druzhyninaa instrumentalandtechnologicalmodelingofautoemissionsiliconmicrocathodes
AT holotavi instrumentalandtechnologicalmodelingofautoemissionsiliconmicrocathodes
AT kogutit instrumentalandtechnologicalmodelingofautoemissionsiliconmicrocathodes
AT saponsv instrumentalandtechnologicalmodelingofautoemissionsiliconmicrocathodes
AT khoverkoyum instrumentalandtechnologicalmodelingofautoemissionsiliconmicrocathodes
AT druzhyninaa pribornotehnologičeskoemodelirovanieavtoémissionnyhkremnievyhmikrokatodov
AT holotavi pribornotehnologičeskoemodelirovanieavtoémissionnyhkremnievyhmikrokatodov
AT kogutit pribornotehnologičeskoemodelirovanieavtoémissionnyhkremnievyhmikrokatodov
AT saponsv pribornotehnologičeskoemodelirovanieavtoémissionnyhkremnievyhmikrokatodov
AT khoverkoyum pribornotehnologičeskoemodelirovanieavtoémissionnyhkremnievyhmikrokatodov